京东方科技集团股份有限公司;京东方晶芯科技有限公司孙吉伟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;京东方晶芯科技有限公司申请的专利背光模组、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119225069B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310787698.5，技术领域涉及：G02F1/13357；该发明授权背光模组、显示装置是由孙吉伟;齐琪;朱红丽;宋泽宇;李驭骉;郑辉;储敬;卫驰;于江波;邱玥设计研发完成，并于2023-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本背光模组、显示装置在说明书摘要公布了：提供了一种背光模组和包括该背光模组的显示装置。背光模组包括：基板；光学层，位于基板上；以及多个支撑部，位于基板与光学层之间。光学层包括与多个支撑部接触的接触区和不与多个支撑部接触的非接触区，接触区与基板之间的第一距离大于非接触区与基板之间的第二距离，多个支撑部中的任意相邻两个支撑部之间的间距S满足如下条件：其中，为矢量，该矢量的模等于第一距离与第二距离之差的最大值，K为正数。
本发明授权背光模组、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种背光模组，包括： 基板； 光学层，位于所述基板上；以及 多个支撑部，位于所述基板与所述光学层之间， 其中，所述光学层包括与所述多个支撑部接触的接触区和不与所述多个支撑部接触的非接触区，所述接触区与所述基板之间的第一距离大于所述非接触区与所述基板之间的第二距离， 其中，所述多个支撑部中的任意相邻两个支撑部之间的间距S满足如下条件： ， 其中，为矢量，该矢量的模等于所述第一距离与所述第二距离之差的最大值，K为正数，，所述光学层包括堆叠的第一光学层和第二光学层，为所述第一光学层的密度，为所述第二光学层的密度，h1为所述第一光学层的厚度，h2为所述第二光学层的厚度，α为所述光学层在第一方向上的单位长度，所述第一方向平行于坐标系的x轴并且垂直于所述光学层的厚度方向，E为所述第二光学层的杨氏模量，g为重力加速度。
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