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龙图腾网获悉双良硅材料(包头)有限公司申请的专利一种单晶方棒的清洗装置和单晶方棒清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117772661B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311739603.9，技术领域涉及：B08B1/14；该发明授权一种单晶方棒的清洗装置和单晶方棒清洗方法是由薛丙;王小亮;杨俊乐设计研发完成，并于2023-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种单晶方棒的清洗装置和单晶方棒清洗方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种单晶方棒的清洗装置和单晶方棒清洗方法，所述装置包括传送装置和按照顺序排列的第一方棒清洗区间、第一方棒擦拭区间、第二方棒清洗区间、第二方棒擦拭区间、第三方棒清洗区间和风干区间，传送装置用于按照顺序传送所述单晶方棒至对应的区间。每个区间具有可旋转的抓持装置，第一方棒清洗区间用于清洗所述单晶方棒表面的杂质，第一擦拭装置用于在释放水的同时擦拭单晶方棒表面，第二方棒清洗区间用于进一步清洗单晶方棒，第二方棒擦拭区间用于在释放无水乙醇溶液的同时擦拭单晶方棒，第三方棒清洗区间用于清洗所述单晶方棒表面的无水乙醇溶液，风干区间用于风干单晶方棒。本申请提供的装置可以自动化清洗方棒，成本较低。

本发明授权一种单晶方棒的清洗装置和单晶方棒清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种单晶方棒的清洗装置，其特征在于，包括： 传送装置和按照顺序排列的第一方棒清洗区间、第一方棒擦拭区间、第二方棒清洗区间、第二方棒擦拭区间、第三方棒清洗区间和风干区间，所述传送装置用于按照顺序传送所述单晶方棒至对应的区间； 每个区间具有至少一个可旋转的抓持装置，所述可旋转的抓持装置用于抓持单晶方棒，使所述单晶方棒悬空； 所述第一方棒清洗区间包括第一清洗装置，所述第一清洗装置用于清洗所述单晶方棒表面的杂质； 所述第一方棒擦拭区间包括第一擦拭装置，所述第一擦拭装置用于在释放水的同时擦拭所述单晶方棒表面； 所述第二方棒清洗区间包括第二清洗装置，所述第二清洗装置用于进一步清洗所述单晶方棒表面的杂质； 所述第二方棒擦拭区间包括第二擦拭装置，所述第二擦拭装置用于在释放无水乙醇溶液的同时擦拭所述单晶方棒表面； 所述第三方棒清洗区间包括第三清洗装置，所述第三清洗装置用于清洗所述单晶方棒表面的无水乙醇溶液； 所述风干区间包括风干装置，所述风干装置用于将所述单晶方棒表面的水吹干； 所述第一擦拭装置包括第二阀门和擦拭物： 所述第一擦拭装置通过所述第二阀门释放出的水清洗所述单晶方棒的表面，在清洗所述单晶方棒的表面的同时，所述第一擦拭装置利用所述擦拭物擦拭所述单晶方棒的表面，通过所述第二阀门释放出的水具有预设的第二流量和第二清洗压力。

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