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龙图腾网获悉南京晶升装备股份有限公司申请的专利一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117646192B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311834530.1，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室是由李辉;柯俊;毛瑞川;陆友峰设计研发完成，并于2023-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室在说明书摘要公布了：本发明公开了一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室，包括喷嘴、位于喷嘴上方的衬底、与喷嘴出气端连接的旋流管和位于衬底、旋流管外侧的石英外衬；所述旋流管设有三条气流通路，分别为供NH3和分隔气通过的第一气流通路，供分隔气通过的第二气流通路，供GaCl通过的第三气流通路；所述第一气流通路内设有离心装置，当NH3和分隔气通过第一气流通路时，离心装置使NH3和分隔气进行旋转和离心运动，由扩散预反应生成的细小晶粒被甩向石英外衬后受重力作用掉落集中在收集槽中，而气流沿着石英外衬壁面向衬底中心方向流动；小部分分隔气还经第二气流通路形成射流向垂直衬底方向流动，GaCl经第三气流通路沿垂直衬底方向向衬底中心流动。

本发明授权一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室在权利要求书中公布了：1.一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室，包括喷嘴1和位于喷嘴1上方的衬底2，其特征在于，还包括与喷嘴1出气端连接的旋流管3和位于衬底2、旋流管3外侧的石英外衬4；所述旋流管3设有三条气流通路，分别为供NH3和分隔气通过的第一气流通路，供分隔气通过的第二气流通路，供GaCl通过的第三气流通路；所述第一气流通路内设有离心装置，当NH3和一部分分隔气通过第一气流通路时，离心装置使NH3和分隔气进行旋转和离心运动，并沿着石英外衬4壁面向衬底2中心方向流动；另一部分分隔气还经第二气流通路形成射流沿垂直衬底2方向流动，GaCl经第三气流通路沿垂直衬底2方向向衬底中心流动； 所述旋流管3呈圆柱体，且所述第一气流通路位于旋流管最外侧，第二气流通路位于第一气流通路内侧，第三气流通路位于第二气流通路内侧；第一气流通路、第二气流通路呈同心圆环分布，第三气流通路为经过旋流管3圆心的圆柱形；所述旋流管3的第一气流通路内设有若干平行设置的扇叶31，所述扇叶31所在平面与气体进气方向呈一定夹角倾斜设置以使经过扇叶31的气体做离心运动；所述第二气流通路内设有呈圆周分布的气孔32，气体经过所述气孔32形成射流并流出旋流管3。

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