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龙图腾网获悉安徽皖维先进功能膜材料研究院有限公司;合肥德瑞格光电科技有限公司申请的专利一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117343457B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311488920.8，技术领域涉及：C08L29/04；该发明授权一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片是由王之乐;徐学斌;叶克;王道亮;俞纪贤设计研发完成，并于2023-11-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片在说明书摘要公布了：本发明公开了一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片，涉及偏光片技术领域，制备基膜时将聚乙烯醇与增塑剂、表面活性剂、抗氧剂等投入溶解釜中，加入去离子水；同时将乙酰乙酰基改性聚乙烯醇投入到另一溶解釜中，加入去离子水，溶胀后分别程序控制升温，之后将两釜溶液混合均匀，即得聚乙烯醇铸膜原液；通过向聚乙烯醇光学基膜中加入乙酰乙酰基改性聚乙烯醇，并使用交联剂与乙酰乙酰基发生交联反应后，在聚乙烯醇光学基膜中产生由化学键形成的稳定的交联结构，使得偏光片在垂直于拉伸方向上具有一定的强度，保证偏光膜在受到冷热冲击时不会开裂，可以提高偏光片的耐久性。

本发明授权一种聚乙烯醇光学基膜、基膜制备方法及偏光片在权利要求书中公布了：1.一种聚乙烯醇光学基膜，其特征在于，由以下重量组分的原料组成： 聚乙烯醇100份； 乙酰乙酰基改性聚乙烯醇1-10份； 增塑剂1-25份； 表面活性剂0.01-1份； 抗氧剂0.01-0.5份； 去离子水60-1000份； 所述乙酰乙酰基改性聚乙烯醇的取代度为0.1-40%； 所述增塑剂为甲醇、乙醇、乙二醇、甘油、丙二醇、山梨醇、季戊四醇中的一种或多种； 所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂或非离子型表面活性剂； 所述抗氧剂为抗坏血酸类、异抗坏血酸及其盐、植酸、氨基酸类中的一种或多种； 所述聚乙烯醇光学基膜的制备方法包括以下步骤： S1：在20-35℃的初始温度下，将聚乙烯醇、增塑剂、表面活性剂、抗氧剂加入溶解釜一中，再加入部分去离子水；同时将乙酰乙酰基改性聚乙烯醇加入溶解釜二中，加入余下的去离子水；将两釜溶胀0.5-2h后，分别程序控制升温，对溶解釜一从初始温度1-5h升至90-180℃，并在90-180℃下保温搅拌1.5-7h；对溶解釜二从初始温度1-5h升至90-150℃，需保证溶解釜二升后温度高于溶解釜一，并在90-150℃下保温搅拌2-5h；最终将两釜溶液混合均匀，即得聚乙烯醇铸膜原液； S2：将铸膜原液经挤出机脱泡后、过滤后再通过模头流延成型；成型后的膜经干燥导辊进行预干燥，然后进入湿热烘箱进行热处理，再进入热处理烘箱烘进行定型；最后收卷成膜即获得聚乙烯醇光学基膜。

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