包头稀土研究院赵娜娜获国家专利权
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龙图腾网获悉包头稀土研究院申请的专利合金靶材及其制备方法、用途以及钕铁硼磁体的处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117286373B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311289882.3，技术领域涉及：C22C21/00；该发明授权合金靶材及其制备方法、用途以及钕铁硼磁体的处理方法是由赵娜娜;鲁飞;李慧;张帅;尹高天;李飞;刘树峰;温永清;孙晓华设计研发完成，并于2023-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本合金靶材及其制备方法、用途以及钕铁硼磁体的处理方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种合金靶材及其制备方法、用途以及钕铁硼磁体的处理方法。该合金靶材由50～80wt％Al、5～20wt％Mn和4～35wt％稀土元素组成。本发明的合金靶材在磁控溅射镀膜过程中不易破碎。
本发明授权合金靶材及其制备方法、用途以及钕铁硼磁体的处理方法在权利要求书中公布了：1.一种钕铁硼磁体的处理方法，其特征在于，包括如下步骤： 1以铝靶作为溅射源，采用磁控溅射镀膜的方式在钕铁硼基体上形成过渡层，得到第一中间体；铝靶功率密度为10～15Wcm2，工件偏压为100～200V，镀膜时间为3～8min； 2以铝靶和合金靶材作为溅射源，采用磁控溅射镀膜的方式在第一中间体上形成梯度层，得到第二中间体；铝靶功率密度为10～15Wcm2，工件偏压为100～200V，合金靶材功率密度为15～25Wcm2，镀膜时间为2～7min； 3以合金靶材作为溅射源，采用磁控溅射镀膜的方式在第二中间体上形成非晶层；工件偏压为60～120V，合金靶材功率密度为15～25Wcm2，镀膜时间为20～60min； 所述合金靶材由66～70wt％Al、15～17wt％Mn和15～18wt％Ce组成。
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