武汉理工氢电科技有限公司陈洋获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工氢电科技有限公司申请的专利膜电极双面间隙对位转印方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116504999B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310510623.2，技术领域涉及：H01M4/88；该发明授权膜电极双面间隙对位转印方法及系统是由陈洋;潘牧;田明星;艾波;朱俊彦设计研发完成，并于2023-05-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本膜电极双面间隙对位转印方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种膜电极双面间隙对位转印方法及系统，系统包括转印基材收放机构，用于收放转印基材；质子交换膜收放机构，用于收放质子交换膜；一段辊压机构，用于将转印基材上一半催化剂涂层转印到第一卷质子交换膜上；二段辊压机构，用于将转印基材上另一半催化剂涂层转印到第二卷质子交换膜上。本发明装置结构简单，控制点少，转印方法便捷，实现了阴阳极催化剂间隙自动化对位转印的同时降低了生产成本。
本发明授权膜电极双面间隙对位转印方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种膜电极双面间隙对位转印系统，其特征在于：包括： 转印基材收放机构，用于收放转印基材，其包括上下镜像对称设置的上转印基材收放单元和下转印基材收放单元；上、下转印基材收放单元均包括转印基材、用于释放全黑的转印基材的转印基材放卷机以及用于回收空白的转印基材的转印基材收卷机，转印基材放卷机和转印基材收卷机之间设置转印基材张力传感器； 质子交换膜收放机构，用于收放质子交换膜，设置于上转印基材收放单元和下转印基材收放单元之间，其包括沿转印基材行进方向放置的前质子交换膜收放单元和后质子交换膜收放单元；所述前质子交换膜收放单元和后质子交换膜收放单元均包括质子交换膜、用于释放质子交换膜的质子交换膜放卷机以及用于收卷3CCM成品的质子交换膜收卷机； 一段辊压机构，用于将转印基材上一半催化剂涂层转印到第一卷质子交换膜上； 二段辊压机构，用于将转印基材上另一半催化剂涂层转印到第二卷质子交换膜上； 所述一段辊压机构和二段辊压机构均包括上下方向布置的凹压辊和平压辊。
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