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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利抗蚀剂材料及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116500860B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310055729.8，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权抗蚀剂材料及图案形成方法是由畠山润;福岛将大设计研发完成，并于2023-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗蚀剂材料及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含下式1表示的锍盐的酸产生剂。式中，RAL为具预定芳香族基的环状仲或叔酯型酸不稳定基团。

本发明授权抗蚀剂材料及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂材料，含有：包含下式1表示的锍盐的酸产生剂； 式中，p为0或1，q为0～4的整数，r为1或2，s为1～3的整数； R1为单键、醚键、硫醚键或酯键； R2为单键或碳数1～20的烷二基，且该烷二基也可具有氟原子或羟基； R3为羟基、羧基、硝基、氰基、氟原子、氯原子、溴原子、碘原子或氨基或也可含有选自氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、羟基、氨基及醚键中的至少1种的碳数1～20的饱和烃基、碳数1～20的饱和烃基氧基、碳数2～20的饱和烃基羰基氧基、碳数2～20的饱和烃基氧基羰基或碳数1～4的饱和烃基磺酰基氧基； R4为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基；s＝1时，2个R4可互为相同也可相异，亦可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环； X-为非亲核性相对离子； RAL为下式AL-1～AL-4中任一者表示的酸不稳定基团； 式中，m1为0～4的整数，n1为0～3的整数，0≤m1+n1≤4；m2为0～6的整数，n2为0～3的整数，0≤m2+n2≤6；n3为0～4的整数；n4为0～4的整数； R5为氢原子、碳数1～12的饱和烃基、碳数2～8的烯基、碳数2～8的炔基或碳数6～10的芳基，且该饱和烃基、烯基、炔基及芳基也可含有氧原子或硫原子； R6为氟原子、碘原子、也可被氟原子取代的碳数1～4的烷基、也可被氟原子取代的碳数1～4的烷氧基或也可被氟原子取代的碳数1～4的烷基硫代基； R7为羟基、碳数2～4的烷氧基羰基、硝基、氰基、氯原子、溴原子、氨基、苯基或碳数1～4的烷基磺酰基，且n2为2或3时，2个R7也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成环； R8为碳数2～6的烯基； 圆弧Ra1为碳数2～10的4价饱和烃基，且碳-碳键间也可含有氧原子、硫原子、氮原子或碳数6～10的芳香族基； 圆弧Ra2为碳数2～10的4价饱和烃基，且碳-碳键间也可含有氧原子、硫原子或氮原子； 圆圈Ra3为在环中具有双键及或具有键结于环中的碳原子的亚烷基的碳数3～10的n3+2价的环状脂肪族烃基； 圆圈Ra4为碳数3～10的n4+2价的环状饱和烃基； 虚线为原子键。

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