上海盛剑微电子有限公司张伟明获国家专利权
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龙图腾网获悉上海盛剑微电子有限公司申请的专利一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116430691B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310390143.7，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用是由张伟明;李玉兴;聂航;章学春;沈楠设计研发完成，并于2023-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用，属于光致抗蚀剂清洗技术领域。按质量份数计，光致抗蚀剂剥离液包括40.00份‑70.00份的醇醚类溶剂、25.00份‑55.00份的酰胺类溶剂、1.00份‑20.00份的烷醇胺类、0.10份‑2.00份的pH调节剂以及0.01份‑2.00份的金属保护剂。该光致抗蚀剂剥离液为水系不含环境危害型的有机溶剂的剥离液，其能有效抑制Al金属层腐蚀，并且，通过使用pH调节剂，避免了玻璃基板金属配线的腐蚀问题，同时组分中不含表面活性剂，解决了剥离液使用过程中泡沫大的问题。该光致抗蚀剂剥离液的制备方法简单，直接将各成分按配比混合即可。
本发明授权一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂剥离液，其特征在于，按质量份数计，所述光致抗蚀剂剥离液包括45.00份-65.00份的二乙二醇甲醚、30.00份-50.00份的N-甲基甲酰胺、2.00份-7.00份的N-甲基二乙醇胺、0.20份-0.80份的柠檬酸钠以及0.05份-1.00份的L-精氨酸；且，所述光致抗蚀剂剥离液中不含表面活性剂。
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