株式会社EGTM金才玟获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社EGTM申请的专利用选择剂形成区域选择性薄膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116113724B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180061551.7，技术领域涉及：H10P14/694；该发明授权用选择剂形成区域选择性薄膜的方法是由金才玟;金荷娜;崔雄辰设计研发完成，并于2021-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本用选择剂形成区域选择性薄膜的方法在说明书摘要公布了：根据本发明的一实施例，一种形成区域选择性薄膜的方法包括：选择剂供应步骤，将选择剂供应至内部置有基板的腔室的内部，以使所述选择剂吸附至所述基板的非生长区域；净化步骤，净化所述腔室的内部；前驱体供应步骤，将前驱体供应至所述腔室的内部，以使所述前驱体吸附至所述基板的生长区域；净化步骤，净化所述腔室的内部；及薄膜形成步骤，将反应物质供应至所述腔室的内部，以使所述反应物质与被吸附的所述金属前驱体发生反应而形成薄膜。
本发明授权用选择剂形成区域选择性薄膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种形成区域选择性薄膜的方法，包括： 选择剂供应步骤，将选择剂供应至内部置有基板的腔室的内部，以使所述选择剂吸附至所述基板的非生长区域； 净化步骤，净化所述腔室的内部； 前驱体供应步骤，将前驱体供应至所述腔室的内部，以使所述前驱体吸附至所述基板的生长区域； 净化步骤，净化所述腔室的内部；及 薄膜形成步骤，将反应物质供应至所述腔室的内部，以使所述反应物质与被吸附的所述前驱体发生反应而形成薄膜， 所述选择剂由以下化学式1表示： 化学式1 在化学式1中，n各自为0至8的整数,R1～R3各自选自具有1至8个碳原子的烷基，R4选自氢、具有1至8个碳原子的烷基、以及具有1至8个碳原子的烷氧基。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社EGTM，其通讯地址为：韩国京畿道水原市灵通区新院路304, 3-303(远泉洞，灵通伊诺普莱克斯)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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