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龙图腾网获悉株式会社V技术申请的专利聚焦带电粒子束装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116034448B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180054193.7，技术领域涉及：H01J37/20；该发明授权聚焦带电粒子束装置是由水村通伸;新井敏成;松本隆德;竹下琢郎设计研发完成，并于2021-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本聚焦带电粒子束装置在说明书摘要公布了：提供一种聚焦带电粒子束装置，其具备：支承部，其支承被处理基板；以及聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动，其中，所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部，在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲，在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于被处理基板进行相对移动。

本发明授权聚焦带电粒子束装置在权利要求书中公布了：1.一种聚焦带电粒子束装置，其特征在于，具备： 支承部，其支承被处理基板；以及 聚焦能量束柱状体，其具备差动排气装置且能够以与所述被处理基板的被处理面的任意区域对应的方式进行相对移动， 所述支承部在将所述被处理基板水平地配置的状态下仅支承所述被处理基板的周缘部， 在由所述支承部支承的所述被处理基板的下方配置有正压腔室，所述正压腔室遍及所述被处理基板的被处理区域整体地施加正压，阻止所述被处理基板因自重产生的挠曲， 在所述正压腔室内具备局部负压机构，所述局部负压机构维持与所述被处理基板的下表面不接触的状态来施加负压，来抵消所述差动排气装置的吸引力，所述局部负压机构维持隔着该被处理基板而与所述差动排气装置对置的状态，并且能够追随着所述差动排气装置而相对于所述被处理基板进行相对移动， 以围绕所述差动排气装置的外侧的方式设置有向所述被处理面喷吹气体的第一浮起垫， 以围绕所述局部负压机构的外侧的方式设置有向所述被处理基板的下表面喷吹气体的第二浮起垫。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社V技术，其通讯地址为：日本神奈川县；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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