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富士胶片株式会社片山晃男获国家专利权

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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利图案形成方法、电路基板的制造方法及层叠体获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115668061B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180036339.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权图案形成方法、电路基板的制造方法及层叠体是由片山晃男;石坂壮二;佐藤守正设计研发完成,并于2021-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。

图案形成方法、电路基板的制造方法及层叠体在说明书摘要公布了:本发明提供一种图案形成方法、层叠体及这些的应用,上述图案形成方法包括:准备依次具备第一感光层、具有相对于曝光波长透明的区域的基板以及第二感光层的层叠体的工序;对上述第一感光层进行曝光的工序;对上述第二感光层进行曝光的工序;对经曝光的上述第一感光层进行显影而形成第一树脂图案的工序;及对经曝光的上述第二感光层进行显影而形成第二树脂图案的工序,对上述第一感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ1及对上述第二感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ2满足λ1≠λ2的关系。

本发明授权图案形成方法、电路基板的制造方法及层叠体在权利要求书中公布了:1.一种图案形成方法,其包括: 准备依次具备第一感光层、具有相对于曝光波长透明的区域的基板以及第二感光层的层叠体的工序; 对所述第一感光层进行曝光的工序; 对所述第二感光层进行曝光的工序; 对经曝光的所述第一感光层进行显影而形成第一树脂图案的工序;及 对经曝光的所述第二感光层进行显影而形成第二树脂图案的工序, 对所述第一感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ1及对所述第二感光层进行曝光的工序中的曝光波长的主波长λ2满足λ1≠λ2的关系, 在所述第一感光层与用于对所述第一感光层进行曝光的光源之间配置有吸收所述主波长λ2的光的部件和或在所述第二感光层与用于对所述第二感光层进行曝光的光源之间配置有吸收所述主波长λ1的光的部件, 在用于对所述第一感光层进行曝光的光源与吸收所述主波长λ2的光的部件之间具有透射主波长λ1且反射主波长λ2的滤波器,且在用于对所述第二感光层进行曝光的光源与吸收所述主波长λ1的光的部件之间具有透射主波长λ2且反射主波长λ1的滤波器。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人富士胶片株式会社,其通讯地址为:日本国东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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