中国电子科技集团公司第四十八研究所龚欣获国家专利权
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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第四十八研究所申请的专利一种适用于分子束外延设备的基片加热器及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115613129B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211319434.9，技术领域涉及：C30B23/06；该发明授权一种适用于分子束外延设备的基片加热器及其制造方法是由龚欣;陈长平;陈峰武;魏唯;宁澍;肖慧;巩小亮设计研发完成，并于2022-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于分子束外延设备的基片加热器及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种适用于分子束外延设备的基片加热器，包括圆盘状的热解氮化硼基体、设于热解氮化硼基体上的热解石墨涂层和设于热解石墨涂层上的热解氮化硼保护涂层，所述热解石墨涂层上设有内圈电路和外圈电路，所述内圈电路和所述外圈电路分别由电极引出以实现独立加热。本发明进一步公开了加热器的制造方法，包括以下步骤；S1、在热解氮化硼基体基体上沉积热解石墨涂层；S2、在热解石墨涂层上加工出电路图形；S3、在热解石墨涂层上沉积热解氮化硼保护涂层。本发明具有材料纯度高、放气率低，高温环境下机械性能好，方便针对不同应用场景灵活调整电路设计以提高温度均匀性等优点。
本发明授权一种适用于分子束外延设备的基片加热器及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种适用于分子束外延设备的基片加热器，其特征在于：包括圆盘状的热解氮化硼基体11、设于热解氮化硼基体11上的热解石墨涂层12和设于热解石墨涂层12上的热解氮化硼保护涂层13，所述热解石墨涂层12上设有内圈电路121和外圈电路122，所述内圈电路121和所述外圈电路122分别由电极引出以实现独立加热；适用于分子束外延设备的基片加热器还包括设于所述热解氮化硼保护涂层13与基片21之间的热解氮化硼匀热片3，用于提高温度均匀性和防止喷射源料污染；所述内圈电路121的轮廓为正方形、正六边形、正八边形、正十二边形或正十六边，所述内圈电路121包括多条均匀排布的平行折线纹路，所述外圈电路122中与所述内圈电路121各侧边对应的区域内分别设有多条均匀排布的平行折线纹路。
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