上海微电子装备(集团)股份有限公司任书铭获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种曝光方法及显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115586705B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110756340.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种曝光方法及显示面板是由任书铭设计研发完成，并于2021-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光方法及显示面板在说明书摘要公布了：本发明提供一种曝光方法及显示面板，该方法包括：提供光刻机，光刻机包括载台，在载台表面提供衬底基板；在衬底基板远离载台的一侧制备光吸收层；在光吸收层远离载台的一侧制备金属层，金属层中设置有开口；在金属层远离载台的一侧制备光刻胶层并对光刻胶层进行曝光处理；经开口入射至光吸收层中的光线被光吸收层吸收。本发明实施例提供的曝光方法，通过设置光吸收层吸收经开口到达衬底基板后再经金属层多次反射叠加后到达光刻胶内的反射光，可以有效减弱反射光能量，从而达到减轻或者消除反射光对光刻胶的影响，进一步减轻或者消除载台色不均现象，提高光刻准精度。
本发明授权一种曝光方法及显示面板在权利要求书中公布了：1.一种曝光方法，其特征在于，包括： 提供光刻机，所述光刻机包括载台； 在所述载台表面提供衬底基板； 在所述衬底基板远离所述载台的一侧制备光吸收层；沿第一方向，所述光吸收层的厚度为H2,1µm≤H2≤5µm；所述第一方向垂直所述衬底基板所在平面； 在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备刻蚀阻挡层； 在所述光吸收层远离所述载台的一侧制备金属层，包括： 在所述刻蚀阻挡层远离所述载台的一侧制备金属层；其中，所述金属层中设置有开口；所述光吸收层在所述衬底基板所在平面上的垂直投影至少覆盖所述开口在所述衬底基板所在平面上的垂直投影； 在所述金属层远离所述载台的一侧制备光刻胶层并对所述光刻胶层进行曝光处理；经所述开口入射至所述光吸收层中的光线被所述光吸收层吸收。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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