AGC株式会社本谷敏获国家专利权
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龙图腾网获悉AGC株式会社申请的专利带防眩膜的基材和带防眩膜的基材的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115398282B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180028814.4，技术领域涉及：G02B5/02；该发明授权带防眩膜的基材和带防眩膜的基材的制造方法是由本谷敏;米田圣人;饭野知纱;白仓胜道;中村浩二设计研发完成，并于2021-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本带防眩膜的基材和带防眩膜的基材的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种带防眩膜的基材，其为具备基材3和形成于上述基材3的至少一个主面的一部分的防眩膜5的带防眩膜的基材1，具有：在上述基材的上述至少一个主面形成有上述防眩膜的防眩部50；以及在上述基材的上述至少一个主面未形成上述防眩膜的非防眩部30，根据上述防眩部与上述非防眩部邻接的区域的利用特定的测定方法测得的防眩膜的凹凸高度测定结果，使用特定的式1求出的值P的平均值为－20μm以上。
本发明授权带防眩膜的基材和带防眩膜的基材的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种带防眩膜的基材，具备基材和形成于所述基材的至少一个主面的一部分的防眩膜，所述带防眩膜的基材具有： 在所述基材的所述至少一个主面形成有所述防眩膜的防眩部；以及 在所述基材的所述至少一个主面未形成所述防眩膜的非防眩部， 根据所述防眩部与所述非防眩部邻接的区域的利用下述测定方法测得的防眩膜的凹凸高度测定结果，使用下述式1求出的值P的平均值为20μm以上， 凹凸高度测定方法： 将测定开始位置设为非防眩部上， 将测定方向设为与防眩部和非防眩部的边界线垂直且从非防眩部朝向防眩部的方向， 从非防眩部上的测定开始位置到防眩部每隔0.333μm测定防眩膜的凹凸高度， 值P的计算方法： 将从所述测定开始位置向测定方向的测定距离设为xμm，将防眩膜的凹凸高度的累积值设为yμm，制成x－y坐标平面， 将累积值y＞5且测定距离x最小的点设为防眩膜端部X1x1，y1，将表示测定距离xa＝x1+100处的累积值ya的点设为Axa，ya，将表示测定距离xb＝xa+200处的累积值yb的点设为Bxb，yb， 引一条A－B间的回归直线， 将所述回归直线的x截距设为X2x2，0，由下述式1求出值Pμm， x1－x2＝P···式1。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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