东京毅力科创株式会社金子和史获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114302547B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111141272.X，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法是由金子和史设计研发完成，并于2021-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和等离子体处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括处理容器、气体供给部、电功率供给部和控制装置。处理容器收纳基片。气体供给部向处理容器内供给处理气体。电功率供给部通过向处理容器内供给电功率，来从被供给到处理容器内的处理气体生成等离子体，用所生成的等离子体来处理基片。控制装置控制电功率供给部。并且，控制装置执行以下步骤：步骤a，在从处理气体生成等离子体时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽的频带中所含的频率成分的电功率；步骤b，在用所生成的等离子体处理基片时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽以下的第二带宽的频带中所含的频率成分的电功率。根据本发明，能够更可靠地生成等离子体并且稳定地维持等离子体。
本发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括： 收纳基片的处理容器； 向所述处理容器内供给处理气体的气体供给部； 电功率供给部，其通过向所述处理容器内供给电功率，来从被供给到所述处理容器内的所述处理气体生成等离子体，用所生成的等离子体处理所述基片；和 控制所述电功率供给部的控制装置， 所述控制装置执行以下步骤，即： 步骤a，在从所述处理气体生成等离子体时，控制所述电功率供给部，以向所述处理容器内同时供给包含第一带宽的频带中所含的多个不同的频率成分的电功率；和 步骤b，在用所生成的等离子体来处理所述基片时，控制所述电功率供给部，以向所述处理容器内同时供给包含比所述第一带宽窄的第二带宽的频带中所含的多个不同的频率成分的电功率。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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