东京毅力科创株式会社野田朋宏获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法、存储介质以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114141657B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110983823.0，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理方法、存储介质以及基板处理装置是由野田朋宏;武内亮太;加藤宽三;高柳康治设计研发完成，并于2021-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法、存储介质以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法、存储介质以及基板处理装置，能够抑制基板间的膜厚变动。基板处理方法包括以下过程：进行液处理，所述液处理包括使用将基板保持于规定的处理位置并对基板的表面供给处理液的液处理单元来对被保持于处理位置的基板的表面供给处理液、以及在供给处理液后将基板以能够在基板的表面上形成处理液的覆膜的方式保持；以及在液处理前进行调节液处理单元中的、在执行液处理时对基板的温度产生影响的构件的温度的调温处理。
本发明授权基板处理方法、存储介质以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，包括以下过程： 进行液处理，所述液处理包括使用将基板保持于规定的处理位置并对所述基板的表面供给处理液的液处理单元来对被保持于所述处理位置的所述基板的表面供给所述处理液、以及在供给所述处理液后将所述基板以能够在所述基板的表面上形成所述处理液的覆膜的方式保持；以及 在所述液处理之前进行调节所述液处理单元中的、在执行所述液处理时对所述基板的温度产生影响的构件的温度的调温处理， 其中，所述构件包括内杯，所述内杯是包围被保持于所述处理位置的所述基板的收容部中的、以接近所述基板的背面的外周部的状态配置的收容部， 所述调温处理包括通过对所述内杯供给流体来将所述内杯进行冷却， 通过对所述内杯供给所述流体来将所述内杯进行冷却包括对所述内杯供给作为所述流体的溶剂、以及在供给所述溶剂后维持不对所述内杯供给所述溶剂的状态。
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