浙江艾科半导体设备有限公司周玉福获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江艾科半导体设备有限公司申请的专利一种晶圆最终清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223957939U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520474309.8，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型一种晶圆最终清洗装置是由周玉福;贾泓超;殷杰毅设计研发完成，并于2025-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆最终清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种晶圆最终清洗装置，包括清洗台、机台以及清洗机构；清洗台呈圆形并且转动设置，清洗台的上端沿着其边沿一圈依次设有多个放置位；多个放置位均通过隔板分隔进行独立设置；清洗台的外侧，环绕一圈依次设有上料位、至少两个清洗位以及下料位，清洗位设有机台；机台上设置有可伸至清洗位进行清洗的清洗机构，将晶圆放置在清洗台上，通过清洗台的旋转依次将晶圆移动至不同机台的不同清洗机构处进行清洗，不用通过独立的设备转移晶圆，降低了晶圆再次污染的风险。
本实用新型一种晶圆最终清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆最终清洗装置，其特征在于，包括清洗台1、机台4以及清洗机构； 所述清洗台1呈圆形并且转动设置，所述清洗台1的上端沿着其边沿一圈依次设有多个放置位2；多个放置位2均通过隔板3分隔进行独立设置； 所述清洗台1的外侧，环绕一圈依次设有上料位、至少两个清洗位以及下料位，所述清洗位设有机台4； 所述机台4上设置有可伸至清洗位进行清洗的清洗机构，所述清洗机构包括第一连杆5、第二连杆6、清洗辊7以及喷水管8，所述第一连杆5的一端通过第一转轴9安装在机台4上转动，所述第二连杆6的一端通过第二转轴10与第一连杆5的另一端转动连接，所述清洗辊7通过第三转轴11安装在第二连杆6的另一端转动，所述第一连杆5、第二连杆6以及清洗辊7分别通过第一驱动机构、第二驱动机构以及第三驱动机构驱动转动，所述喷水管8设于第二连杆6上并朝向清洗辊7设置。
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