武汉华星光电技术有限公司刘贞洁获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利显示面板及显示装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223957916U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520632304.3，技术领域涉及：H10K59/122；该实用新型显示面板及显示装置是由刘贞洁设计研发完成，并于2025-04-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及显示装置在说明书摘要公布了：本申请涉及一种显示面板及显示装置，该显示面板包括阵列基板以及设置在阵列基板上方的第一像素限定结构和第二像素限定结构，阵列基板包括显示区和外围区，第一像素限定结构位于显示区，第二像素限定结构位于外围区，其中，第二像素限定结构包括N层亲水层和N层疏水层，亲水层和疏水层沿阵列基板的厚度方向依次交替层叠设置，N≥2；本申请将位于外围区的第二像素限定结构设置为由多层亲水层和疏水层交替层叠设置的结构，增加了虚拟打印区的深度，即在有限的边框宽度条件下，增加了虚拟打印区的墨水打印量，能够有效改善外围区的墨水干燥速率，进而提升显示区发光膜层的厚度均匀性，提升显示面板的显示效果。
本实用新型显示面板及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，其特征在于，包括： 阵列基板，包括显示区以及位于所述显示区至少一侧的外围区； 第一像素限定结构，设置在所述阵列基板上方，且位于所述显示区，所述第一像素限定结构中设置有多个第一开口，所述第一像素限定结构包括围绕各所述第一开口设置的第一挡墙； 第二像素限定结构，设置在所述阵列基板上方，且位于所述外围区，所述第二像素限定结构中设置有至少一个第二开口，所述第二像素限定结构包括围绕各所述第二开口设置的第二挡墙； 其中，所述第二像素限定结构包括N层亲水层和N层疏水层，所述亲水层和所述疏水层沿所述阵列基板的厚度方向依次交替层叠设置，N≥2。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华星光电技术有限公司，其通讯地址为：430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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