开平依利安达电子第五有限公司郑文玮获国家专利权
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龙图腾网获悉开平依利安达电子第五有限公司申请的专利一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223951123U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520191447.5，技术领域涉及：C22B15/00；该实用新型一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置是由郑文玮设计研发完成，并于2025-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种再生装置，尤其涉及一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置，包括有蚀刻机，蚀刻机顶部设置有再生液回流管，再生液回流管与蚀刻机连通，蚀刻机通过蚀刻废液管连接有废液存储机构，蚀刻废液管上安装有水泵，废液存储机构通过进液管连接有电解池，电解池远离废液存储机构的一端通过出液管连接有回收存储机构，回收存储机构连接有药罐，药罐与回收存储机构和再生液回流管连通，电解池内部活动连接有电极板。本实用新型依靠电解反应将蚀刻废液中的金属铜析出并收集，同时通过滤框将脱落的铜屑和悬浮早溶液中的铜屑收集，有效提高了装置对金属铜的回收效率，避免碎屑影响后续工作的顺利进行，保证工作质量。
本实用新型一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置在权利要求书中公布了：1.一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置，包括有蚀刻机2，其特征在于：蚀刻机2顶部设置有再生液回流管1，再生液回流管1与蚀刻机2连通，蚀刻机2通过蚀刻废液管5连接有废液存储机构，蚀刻废液管5上安装有水泵4，废液存储机构通过进液管9连接有电解池8，电解池8远离废液存储机构的一端通过出液管10连接有回收存储机构，回收存储机构连接有药罐17，药罐17与回收存储机构和再生液回流管1连通，电解池8内部活动连接有电极板11，电解池8内部设置有滤框12，滤框12固定连接有滑块13，电解池8内壁开设有供滑块13滑动的限位槽15。
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