上海亦富亦创半导体科技有限公司何伟获国家专利权
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龙图腾网获悉上海亦富亦创半导体科技有限公司申请的专利一种气体喷淋头清洗治具获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223945968U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520070536.4,技术领域涉及:B05B15/55;该实用新型一种气体喷淋头清洗治具是由何伟;王烁设计研发完成,并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种气体喷淋头清洗治具在说明书摘要公布了:本实用新型属于喷淋头清洗技术领域,具体涉及一种气体喷淋头清洗治具,包括治具主体和待清洗喷头,治具主体呈圆盘结构且中心向下凹陷,治具主体内部开设有安装腔体,安装腔体截面呈台阶状,待清洗喷头置于安装腔体内部,安装腔体底部开设有镂空槽,镂空槽与待清洗喷头的喷淋孔相对应,治具主体顶部安装有密封盖,密封盖对安装腔体顶部密封,首先将气体喷淋头置于治具的安装腔体内,并通过密封盖以及密封圈,保证安装腔体的密封,通过真空泵对腔体内部气压的控制,以控制活动推板上方的气缸,然后将治具进入到药液中,通过真空泵控制活动推板在内部上下移动板,以实现对药液的往复冲洗,以对孔内的沉积为彻底清洗。
本实用新型一种气体喷淋头清洗治具在权利要求书中公布了:1.一种气体喷淋头清洗治具,包括治具主体1和待清洗喷头3,其特征在于:所述治具主体1呈圆盘结构且中心向下凹陷,所述治具主体1内部开设有安装腔体11,所述安装腔体11截面呈台阶状,所述待清洗喷头3置于安装腔体11内部,所述安装腔体11底部开设有镂空槽12,所述镂空槽12与待清洗喷头3的喷淋孔相对应,所述治具主体1顶部安装有密封盖4,所述密封盖4对安装腔体11顶部密封,所述待清洗喷头3内部放置有活动推板6,所述活动推板6将待清洗喷头3和密封盖4之间的腔体分割成两个区域,所述密封盖4上表面中心设置有真空泵对接孔41,所述真空泵对接孔41通过软管与真空泵连接。
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