合肥晶合集成电路股份有限公司徐民达获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121254573B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511832724.7，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法是由徐民达;黄玉;吕永雪;门莹莹;毛文龙设计研发完成，并于2025-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法。其中，该用于监控掩模版三维效应的对准标记包括：至少一个标识单元；其中，所述标识单元包括多组标识棒对；所述多组标识棒对沿其对应的标识单元的扫描轴间隔排列，相邻组的标识棒对之间沿所述扫描轴具有一间距；每组标识棒对中的两个标识棒沿所述扫描轴的两侧对称分布，并且两个标识棒之间形成一夹角。本申请通过采用所提供的对准标记，可以有效监控掩模版的三维效应，检测实际图形区域的实际偏差数值。基于监控到的三维效应的数据，进而可以对偏差进行修正，从而提高光刻工艺的良率和可靠性。
本发明授权用于监控掩模版三维效应的对准标记及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于监控掩模版三维效应的对准标记，其特征在于，包括： 至少一个标识单元； 其中，所述标识单元包括多组标识棒对； 所述多组标识棒对沿其对应的标识单元的扫描轴间隔排列，相邻组的标识棒对之间沿所述扫描轴具有一间距，所述间距根据所述标识棒所在掩模版周边图形的线条尺寸和间隙尺寸而设置，其中，所述线条尺寸指的是所述掩模版上图案的线条的宽度；所述间隙尺寸指的是所述掩模版上相邻线条之间的间距； 每组标识棒对中的两个标识棒沿所述扫描轴的两侧对称分布，并且两个标识棒之间形成一夹角。
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