粤芯半导体技术股份有限公司姚业旺获国家专利权
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龙图腾网获悉粤芯半导体技术股份有限公司申请的专利一种过度刻蚀识别方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121123053B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511658697.6，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权一种过度刻蚀识别方法及系统是由姚业旺;刘茂广;田野设计研发完成，并于2025-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种过度刻蚀识别方法及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种过度刻蚀识别方法及系统，其中，该方法包括：获取待刻蚀芯片的初始套刻标记在预设位置的初始长度；控制刻蚀机台对待刻蚀芯片进行钝化层刻蚀之后，获取待测量套刻标记在预设位置的目标长度，待测量套刻标记指的是通过钝化层刻蚀来去除初始套刻标记之上的钝化层而得到的套刻标记；依据初始长度和目标长度，识别刻蚀状态，刻蚀状态用于指示钝化层刻蚀是否过度刻蚀。通过监控初始长度和目标长度的差异，可以实时反馈出钝化层是否存在过度刻蚀，或者是否存在刻蚀不足的情况，弥补目前钝化层刻蚀工艺步骤没有无法实时监控刻蚀程度的短板，为及时发现工艺异常和调整工艺方向提供参考。
本发明授权一种过度刻蚀识别方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种过度刻蚀识别方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待刻蚀芯片的初始套刻标记在预设位置的初始长度，所述初始套刻标记是用于检测特征尺寸大小的标记； 控制刻蚀机台对所述待刻蚀芯片进行钝化层刻蚀之后，获取待测量套刻标记在预设位置的目标长度，所述待测量套刻标记指的是通过钝化层刻蚀来去除所述初始套刻标记之上的钝化层而得到的套刻标记； 依据所述初始长度和所述目标长度，识别刻蚀状态，所述刻蚀状态用于指示钝化层刻蚀是否过度刻蚀； 所述刻蚀状态包括钝化层刻蚀为过度刻蚀对应的第一刻蚀状态或钝化层刻蚀未过度刻蚀对应的第二刻蚀状态，其中，通过以下方式识别刻蚀状态： 计算所述初始长度和所述目标长度的长度差值； 在所述长度差值大于预设差值时，识别所述刻蚀状态处于所述第一刻蚀状态； 若所述长度差值小于或者等于预设差值时，识别所述刻蚀状态处于所述第二刻蚀状态。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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