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龙图腾网获悉北京和崎精密科技有限公司申请的专利保护气路的控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121075967B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511579269.4，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权保护气路的控制方法是由李宇航;下野智成;苗兆忠设计研发完成，并于2025-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本保护气路的控制方法在说明书摘要公布了：本公开提供控制保护气路将保护气体通入晶圆装载设备的方法，保护气路包括进气流路、排气流路和真空流路，进气流路上设有进气阀和质量流量控制器，排气流路上设有排气阀和传感器，包括：开启进气阀，使得保护气体到达质量流量控制器的上游侧；根据晶圆工艺，确定表征预设环境气氛的预设环境气氛参数；根据预设环境气氛参数和环境气氛形成路径库，确定质量流量控制器的流量参数；开启排气阀；开启质量流量控制器并同时开启真空流路，使得保护气体通过进气流路流入晶圆腔室，并使得晶圆腔室中的气体通过排气流路排出；响应于当前晶圆腔室内的环境气氛参数满足预设环境气氛参数，截断质量流量控制器；截断所述进气阀并同时截断真空流路；截断排气阀。

本发明授权保护气路的控制方法在权利要求书中公布了：1.一种控制方法，适用于控制保护气路以将保护气体通入晶圆腔室，其特征在于，所述保护气路包括进气流路、排气流路和真空流路，所述进气流路上设有进气阀和质量流量控制器，所述排气流路上设有排气阀和传感器，所述控制方法包括： 开启进气阀，使得保护气体到达所述质量流量控制器的上游侧； 根据晶圆工艺，确定表征预设环境气氛的预设环境气氛参数，其中，所述预设环境气氛表征经历所述晶圆工艺的晶圆自初始环境气氛形成所期望的环境气氛过程中的多个环境气氛； 根据所述预设环境气氛参数和一环境气氛形成路径库，确定所述质量流量控制器的流量参数，其中，所述环境气氛形成路径库为多条流量参数-环境气氛参数的映射曲线的集合； 开启排气阀； 开启所述质量流量控制器并同时开启所述真空流路，使得所述保护气体通过所述进气流路流入所述晶圆腔室，并使得所述晶圆腔室中的气体通过所述排气流路排出； 响应于当前所述晶圆腔室内的环境气氛参数满足所述预设环境气氛参数，截断所述质量流量控制器； 截断所述进气阀并同时截断所述真空流路；以及 截断所述排气阀。

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