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微玖(苏州)光电科技有限公司于佳琪获国家专利权

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龙图腾网获悉微玖(苏州)光电科技有限公司申请的专利一种Si基混合集成Micro-LED芯片及制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121001492B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511454136.4,技术领域涉及:H10H29/30;该发明授权一种Si基混合集成Micro-LED芯片及制备方法是由于佳琪;余鹿鸣;钟冠伦;黄振设计研发完成,并于2025-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种Si基混合集成Micro-LED芯片及制备方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种Si基混合集成Micro‑LED芯片及制备方法,芯片以Si衬底为核心集成载体,正面通过区域化选择性外延直接生长GaN基蓝绿光Micro‑LED阵列,同时通过晶圆键合集成AlGaInP基红光Micro‑LED阵列,背面集成CMOS驱动电路;GaN基蓝绿光与AlGaInP基红光阵列的p型层表面均覆盖透明导电层及复合正电极,Si衬底背面制备复合负电极并与CMOS驱动电路互联;本发明通过AlGaInP材料体系解决传统GaN基红光效率低的问题,减少转移次数,结合高导热性与兼容性,实现全彩Micro‑LED的高效集成,兼具高发光率、高良率、强可靠性与广应用兼容性,适用于多种全彩显示场景。

本发明授权一种Si基混合集成Micro-LED芯片及制备方法在权利要求书中公布了:1.一种Si基混合集成Micro-LED芯片,其特征在于,包括Si衬底、集成于所述Si衬底正面的GaN基蓝绿光Micro-LED阵列与AlGaInP基红光Micro-LED阵列,以及集成于所述Si衬底背面的CMOS驱动电路; 所述GaN基蓝绿光Micro-LED阵列通过区域化选择性外延直接生长于Si衬底正面,所述AlGaInP基红光Micro-LED阵列通过晶圆键合集成于Si衬底正面指定区域; 所述GaN基蓝绿光Micro-LED阵列与AlGaInP基红光Micro-LED阵列的p型层表面均覆盖透明导电层,所述透明导电层为ITO、IZO或AZO透明导电材料,厚度为50-300nm,铟锡摩尔比为9:1,且透光率>90%、方块电阻<50Ω□,用于解决小尺寸Micro-LED的电流均匀性问题;所述透明导电层表面均制备有复合正电极,所述复合正电极由至少两种金属层组成,总厚度为500-1500nm,用于解决传统电极的脱落问题; 所述Si衬底背面制备有复合负电极,所述复合负电极厚度由至少两种金属层组成,总厚度为500-1500nm,并通过该负电极与CMOS驱动电路实现电学互联。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人微玖(苏州)光电科技有限公司,其通讯地址为:215000 江苏省苏州市工业园区双溇里路3号合木·传奇大厦816室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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