微玖(苏州)光电科技有限公司王月获国家专利权
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龙图腾网获悉微玖(苏州)光电科技有限公司申请的专利一种改善AlGaInP红光Micro LED侧壁刻蚀损伤的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121001484B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511476491.1,技术领域涉及:H10H29/01;该发明授权一种改善AlGaInP红光Micro LED侧壁刻蚀损伤的方法是由王月;余鹿鸣;黄振;张宇;王程功;郑鹏远设计研发完成,并于2025-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改善AlGaInP红光Micro LED侧壁刻蚀损伤的方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种改善AlGaInP红光MicroLED侧壁刻蚀损伤的方法,包括以下步骤:S1,外延清洗;S2,图形化光刻;S3,ICP干法刻蚀;S4,S4,湿法修复药液配置;S5,侧壁损伤湿法处理;S6,后处理;S7,效果表征;本申请针对ICP干法刻蚀产生50‑100nm侧壁损伤层、引发非辐射复合致器件效率低,且现有ALEALD技术成本高或修复不彻底的问题,提出清洗‑图形化光刻‑ICP刻蚀‑弱酸+氧化剂湿法修复‑后处理‑表征的工艺;修复后损伤层去除率≥90%,光致发光峰值提升≥25%,无需专用设备,兼容MicroLED量产流程,降低成本,适用于ARVR全彩显示等场景,有效提升器件发光性能。
本发明授权一种改善AlGaInP红光Micro LED侧壁刻蚀损伤的方法在权利要求书中公布了:1.一种改善AlGaInP红光MicroLED侧壁刻蚀损伤的方法,其特征在于,包括以下步骤: S1,外延清洗:对AlGaInP外延材料依次进行有机试剂超声清洗、极性溶剂浸泡、去离子水冲洗,后经甩干处理得到洁净外延片; S2,图形化光刻:在洁净AlGaInP外延表面涂覆光刻胶,经曝光、显影形成图形化掩膜; S3,ICP干法刻蚀:将带有图形化掩膜的AlGaInP外延片置于ICP刻蚀机中,采用含Cl基气体与惰性气体的混合气体进行刻蚀,形成MicroLED像素阵列; S4,湿法修复药液配置:将弱酸与去离子水混合并加热搅拌至完全溶解,再加入氧化剂搅拌均匀,冷却至常温得到湿法修复药液; S5,侧壁损伤湿法处理:将刻蚀后的AlGaInP外延片浸没于湿法修复药液中,通过振荡使药液与像素侧壁充分接触,腐蚀去除刻蚀损伤层; S6,后处理:将湿法处理后的外延片经去离子水冲洗去除残留药液,再通过惰性气体吹干; S7,效果表征:通过电子显微镜观察侧壁形貌、通过光致发光测试表征发光性能,验证损伤修复效果。
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