深圳清力技术有限公司郑诚获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳清力技术有限公司申请的专利层间公度接触的超滑块及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119858893B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411992849.1，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权层间公度接触的超滑块及其制备方法是由郑诚;王叶凌怡;蔡祖波;胡国锋;潘旭捷设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本层间公度接触的超滑块及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了层间公度接触的超滑块及其制备方法，该方法使用层间接触方式为公度接触的超滑材料替代HOPG用于制备超滑块，可从根源上有效避免超滑块出现分层现象，保障超滑块的性能。另一方面，使用粗糙衬底作为基底制备超滑块，有助于降低超滑块与基底的结合力，方便超滑块转移到目标衬底。此外，相比于现有的探针转移法，选用“待粘接面的尺寸大于等于所有超滑块中最小超滑块的表面尺寸”的粘性物作为转移介质，使得一块粘性物至少有粘接两块超滑块的空间，能实现超滑块的批量转移，从而提升转移效率以及每次转移时的成功率。
本发明授权层间公度接触的超滑块及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种层间公度接触的超滑块制备方法，其特征在于，包括： 获得粗糙衬底和公度接触材料；所述粗糙衬底为上表面呈现凹凸结构的材料衬底，所述公度接触材料包含层间接触方式为公度接触的超滑材料； 将所述公度接触材料放置于所述粗糙衬底的上表面，并在所述公度接触材料上方沉积掩膜层； 对所述掩膜层进行涂胶、光刻和显影处理，使得所述掩膜层上方呈现目标图案化的光刻胶图案； 以所述光刻胶图案所在的区域为基准区域，对所述基准区域之外的所述掩膜层、所述公度接触材料进行贯穿形式的刻蚀，以制得按所述目标图案排布的至少一块超滑块； 使用粘性物将至少一块所述超滑块转移并释放到目标衬底的表面；其中，所述粘性物和所述超滑块之间的结合力大于所述超滑块和所述粗糙衬底之间的结合力，所述粘性物中待粘接面的尺寸大于等于所有所述超滑块中最小超滑块的表面尺寸。
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