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库博光学国际有限公司W·米切尔获国家专利权

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龙图腾网获悉库博光学国际有限公司申请的专利用于隐形眼镜的辐射阻断剂获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119654577B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202480003419.4,技术领域涉及:G02B1/04;该发明授权用于隐形眼镜的辐射阻断剂是由W·米切尔;I·吉布森;R·A·布罗德;D·默斯利;K·皮斯克奇克;L·辛普森设计研发完成,并于2024-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。

用于隐形眼镜的辐射阻断剂在说明书摘要公布了:一种用于形成水凝胶隐形眼镜的聚合本体的水凝胶隐形眼镜调配物,其包含:包含苯并三唑部分的第一高能可见光HEVL吸收剂,及包含苯并三唑部分的第二不同高能可见光HEVL吸收剂;及一种从所述调配物的聚合获得的水凝胶隐形眼镜。

本发明授权用于隐形眼镜的辐射阻断剂在权利要求书中公布了:1.一种用于形成水凝胶隐形眼镜的聚合本体的水凝胶隐形眼镜调配物,其包含: 包含苯并三唑部分的第一高能可见光吸收剂,即,第一HEVL吸收剂,其中所述第一HEVL吸收剂的0.003wt%的乙酸乙酯溶液在360nm至410nm的范围内具有吸收度峰值, 及 包含苯并三唑部分的第二不同高能可见光吸收剂,即,第二HEVL吸收剂,其中所述第二HEVL吸收剂的0.003wt%的乙酸乙酯溶液在比所述第一HEVL吸收剂的0.003wt%的乙酸乙酯溶液的落在360nm至410nm的范围内的所述吸收度峰值短5nm与25nm之间的波长下具有峰值吸收度, 其中所述第一HEVL吸收剂和所述第二HEVL吸收剂各自具有式1: 其中: R1为卤素、OH、C1-12烷氧基、-A-R9-Y、任选地被取代的C1-12烷基、任选地被取代的苯氧基或任选地被取代的萘氧基,其中任选的取代基为卤素、C1-6烷基、C1-6烷氧基、OH、-CH2CH2OnH、-CH2CH2OnCH2CH3、-CH2CHCH3OnH或-CH2CHCH3OnCH2CH2CH3; R6和R7中的一者为H或任选地被卤素取代的C1-12烷基;且 R6和R7中的另一者为: 或-OR8,其中: R2为键、任选地被-OH取代和或杂有酯基的C1-12亚烷基、CH2CH2O或CHCHCHO 为键、CO、COC2j、C1-6亚烷基、苯基或C1-6烷苯基; X为键、O、NR、S或SiCHOSiCH 各R独立地为H或甲基; 为H、C1-6烷基或苯基; m为0至9; n为2至10; j为1至6; A为-S-或-SO-; 为H、C1-12烷基、C6-15芳烷基或-R-Z; 各R独立地为任选地被-OH取代和或杂有酯基的C1-12亚烷基; Y和Z中的每一者分别为-OH、-OCOR10、-NH、-NCOR10、-NCO、-COH、-CO10 各R10独立地为C1-10烷基或C3-10烯基; 11为C3-10亚环烯基;且 12为C1-10亚烷基或1,2-亚苯基。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人库博光学国际有限公司,其通讯地址为:英国费勒姆;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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