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龙图腾网获悉福建省金龙稀土股份有限公司申请的专利钕铁硼磁体及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119650230B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311159835.7，技术领域涉及：H01F1/057；该发明授权钕铁硼磁体及其制备方法和应用是由汤志辉;李可;陈大崑;许德钦;付刚;黄佳莹;王金磊;李志刚;黎国妃设计研发完成，并于2023-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本钕铁硼磁体及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用。其包括沿垂直于取向方向依次分布的第一易退磁区、第一过渡区、非易退磁区、第二过渡区、第二易退磁区，第一易退磁区、第二易退磁区、非易退磁区、第一过渡区和第二过渡区均为矩形；第一易退磁区与第二易退磁区的HRE质量浓度相同；第一过渡区与第二过渡区的HRE质量浓度相同；非易退磁区与第一易退磁区的HRE质量浓度比为0.3‑0.95：1；第一过渡区与第一易退磁区HRE质量浓度比为0.9‑1：1；其中，HRE为Dy或Tb。该磁体通过易退磁区、过渡区和不易退磁区之间的HRE含量的配合，在节约HRE用量的前提下，还能够提高钕铁硼磁体的抗退磁能力。

本发明授权钕铁硼磁体及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体包括沿垂直于取向方向依次分布的第一易退磁区、第一过渡区、非易退磁区、第二过渡区、第二易退磁区，所述第一易退磁区、所述第二易退磁区、所述非易退磁区、所述第一过渡区和所述第二过渡区均为矩形； 所述第一易退磁区与所述第二易退磁区的HRE质量浓度相同；所述第一过渡区与所述第二过渡区的HRE质量浓度相同；所述非易退磁区与所述第一易退磁区的HRE质量浓度比为0.3-0.95：1；所述第一过渡区与所述第一易退磁区HRE质量浓度比为0.9-1：1；所述非易退磁区的HRE质量浓度为0.1%-0.9%； 其中，HRE为Dy或Tb； 所述第一易退磁区和所述第二易退磁区的矫顽力相同，所述第一过渡区和所述第二过渡区的矫顽力相同；所述第一易退磁区的矫顽力≥所述第一过渡区的矫顽力≥所述非易退磁区的矫顽力；所述第一过渡区与所述第一易退磁区的矫顽力比值为0.95-1：1。

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