北京卫星环境工程研究所孟冬辉获国家专利权
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龙图腾网获悉北京卫星环境工程研究所申请的专利一种标准漏孔及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119374788B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411494162.5，技术领域涉及：G01M3/00；该发明授权一种标准漏孔及其制备方法是由孟冬辉;刘楚彦;刘招贤;任国华;孙立臣;韩琰;汪力;闫荣鑫设计研发完成，并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种标准漏孔及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及真空检漏技术领域，尤其涉及一种标准漏孔及其制备方法，所述标准漏孔包括第一阻气层、渗透层和第二阻气层，其中，第一阻气层与渗透层的上表面贴合设置，第一阻气层设置有与渗透层连通的进气口；第二阻气层与渗透层的下表面贴合设置，以使渗透层夹持在第一阻气层和第二阻气层之间，示漏气体在渗透层中横向流动。本申请中，通过在渗透层的上下两侧设置第一阻气层和第二阻气层，可以控制示漏气体在渗透层中横向流动，相对于示漏气体在渗透层中纵向流动，更有利于调整渗透层的厚度从毫米量级降低至纳米量级，从而显著降低标准漏孔的漏率下限。
本发明授权一种标准漏孔及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种标准漏孔，其特征在于，包括： 上法兰； 下法兰； 漏孔本体，所述漏孔本体包括： 渗透层； 第一阻气层，所述第一阻气层与所述渗透层的上表面贴合设置，所述第一阻气层设置有与所述渗透层连通的进气口； 第二阻气层，所述第二阻气层与所述渗透层的下表面贴合设置，以使所述渗透层夹持在所述第一阻气层和所述第二阻气层之间，示漏气体在所述渗透层中横向流动； 其中，所述上法兰和所述下法兰围设出用于容纳所述第一阻气层、所述渗透层和所述第二阻气层的容纳腔，所述下法兰的底部设置有与所述容纳腔连通的排气通道； 所述渗透层的外周侧与所述上法兰之间形成第一间隙，所述第二阻气层与所述下法兰之间形成第二间隙； 所述标准漏孔构造为使得示漏气体通过所述进气口流入所述渗透层，一部分穿过所述渗透层的示漏气体依次经过所述第一间隙、所述第二间隙，并且最终从所述排气通道流出。
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