武汉天马微电子有限公司上海分公司刘永获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉天马微电子有限公司上海分公司申请的专利一种显示模组和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119152775B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411527264.2,技术领域涉及:G09F9/30;该发明授权一种显示模组和显示装置是由刘永设计研发完成,并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示模组和显示装置在说明书摘要公布了:本发明实施例提供一种显示模组和显示装置,该显示模组包括可弯折区和非弯折区;显示模组还包括显示面板和支撑结构;支撑结构包括支撑本体、多个开槽以及位于开槽内的第一压力调节结构,至少部分开槽和至少部分第一压力调节结构位于可弯折区;第一压力调节结构包括第一状态和第二状态,第一状态下第一压力调节结构承受的压力大于第二状态下第一压力调节结构承受的压力,且第一状态下第一压力调节结构的杨氏模量大于第二状态下第一压力调节结构的杨氏模量。通过在支撑本体处设置开槽,并且在开槽内填充至少部分第一压力调节结构,第一压力调节结构在不同的状态下,能够承受不同的压力,从而保证显示模组整体的结构稳定性和可弯折性。
本发明授权一种显示模组和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示模组,其特征在于,包括可弯折区和非弯折区; 所述显示模组还包括显示面板和支撑结构,所述支撑结构位于所述显示面板的非出光侧; 所述支撑结构包括支撑本体、沿第一方向贯穿所述支撑本体至少部分的多个开槽以及位于所述开槽内的第一压力调节结构,至少部分所述开槽和至少部分所述第一压力调节结构位于所述可弯折区; 所述第一压力调节结构包括第一状态和第二状态,所述第一状态下所述第一压力调节结构承受的压力大于所述第二状态下所述第一压力调节结构承受的压力,且所述第一状态下所述第一压力调节结构的杨氏模量大于所述第二状态下所述第一压力调节结构的杨氏模量; 所述第一压力调节结构包括非牛顿流体以及掺杂于所述非牛顿流体内部的损耗粒子; 所述第一压力调节结构包括第一调节分部和第二调节分部,所述第一调节分部位于所述第二调节分部靠近所述显示面板的一侧; 所述第一调节分部中所述损耗粒子的掺杂比例大于所述第二调节分部中所述损耗粒子的掺杂比例。
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