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龙图腾网获悉武汉锐晶激光芯片技术有限公司申请的专利一种真空镀膜装置及镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117684129B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311639831.9，技术领域涉及：C23C14/22；该发明授权一种真空镀膜装置及镀膜方法是由王威;安海岩;周露露设计研发完成，并于2023-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种真空镀膜装置及镀膜方法在说明书摘要公布了：本发明提出了一种真空镀膜装置及镀膜方法，涉及材料沉积生长技术领域，包括：真空腔体，真空腔体内部具有真空腔室；束流源，倾斜固定设置在真空腔体外侧，用于向真空腔室内发射镀膜所用的源材料；样品台，设置于真空腔室内顶端，样品台底面用于安装工件，样品台底面朝束流源方向倾斜，束流源的中心出射线与样品台底面垂直。本发明公开的真空镀膜装置通过使样品台底面朝束流源方向倾斜，束流源的中心出射线与样品台底面垂直，由此一来，束流源发射的源材料在工件上的投影为圆形而非类椭圆形分布，使束流源发射至工件表面的材料分布绕圆心对称，工件表面沉积的薄膜为圆形分布，形态均一，致密性一致，由此可以大幅提高薄膜的均匀性。

本发明授权一种真空镀膜装置及镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括： 真空腔体1，所述真空腔体1内部具有真空腔室10； 束流源2，倾斜固定设置在真空腔体1外侧，用于向真空腔室10内发射镀膜所用的源材料； 样品台3，设置于真空腔室10内顶端，所述样品台3底面用于安装工件，所述样品台3底面朝束流源2方向倾斜，束流源2的中心出射线与样品台3底面垂直； 还包括监控单元4，所述监控单元4包括光学出射模块41、光学接收模块42及分析模块43，所述光学出射模块41固定设置于真空腔体1底部，用于在竖直方向向真空腔室10内发射测试光线，以使测试光线照射至沉积有薄膜的工件表面，所述光学接收模块42固定设置于真空腔体1外侧壁，用于接收由工件表面反射的光线，所述分析模块43用于对光学接收模块42接收到的光线进行分析； 所述监控单元4还包括角度调整装置44，所述角度调整装置44与分析模块43电性连接，所述真空腔室10内顶面设置有铰接座101，样品台3的一端与铰接座101铰连接，角度调整装置44设置在真空腔室10内，用于驱使样品台3远离铰接座101的一端做俯仰运动，以调整样品台3底面与束流源2的中心出射线的角度； 所述样品台3包括固定板31、夹具32及回转电机33，所述固定板31的一端与铰接座101铰连接，另一端与角度调整装置44铰连接，夹具32设置于固定板31下方，回转电机33固定设置于固定板31顶面，用于驱使夹具32回转，所述夹具32用于水平装夹工件； 所述夹具32包括旋转盘321、第一夹持块322、第二夹持块323、第一连杆324、第二连杆325及弹性件326； 旋转盘321水平设置于固定板31的底面，回转电机33的输出轴穿过固定板31并与旋转盘321固定连接； 第一夹持块322及第二夹持块323相对于旋转盘321中心对称滑动设置在旋转盘321底面，第一夹持块322和第二夹持块323可相对分离或靠近，第一夹持块322和第二夹持块323相互配合用于对工件进行水平夹持，第一夹持块322靠近第二夹持块323的一侧沿垂直于第一夹持块322移动方向的两端分别设置有第一条形孔3221，第二夹持块323靠近第一夹持块322的一侧设置有与第一条形孔3221位置对应的第二条形孔3231； 第一连杆324和第二连杆325交叉转动设置在旋转盘321中心处，且第一连杆324和第二连杆325处于第一夹持块322、第二夹持块323和旋转盘321之间，第一连杆324的两端分别转动设置有第一转轴3241，第二连杆325的两端分别转动设置有第二转轴3251，两个第一转轴3241分别和其中一个第一条形孔3221及其斜对应的第二条形孔3231相连接，两个第二转轴3251分别和另外一个第一条形孔3221及其斜对应的第二条形孔3231相连接； 第一夹持块322及第二夹持块323对应的旋转盘321表面均开设有安装槽3211，所述安装槽3211长度方向与第一夹持块322的移动方向平行，第一夹持块322和第二夹持块323相对的一端底面均设置有插设于安装槽3211内的推板T，弹性件326设置于安装槽3211中并与推板T远离旋转盘321中心的一侧相抵持。

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