北京环境特性研究所刘奇获国家专利权
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龙图腾网获悉北京环境特性研究所申请的专利光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117237247B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311416106.5，技术领域涉及：G06T5/30；该发明授权光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法及装置是由刘奇;朱敏;万耀辉设计研发完成，并于2023-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法及装置，其中方法包括：获取由光电跟踪系统采用的形态学滤波算法所形成的基本形态学操作序列；基于每一个基本形态学操作对应的结构元素数量，确定每一个基本形态学操作对应所需增加的第一像素数量和对应所需删减的第二像素数量；针对每一个基本形态学操作均进行优化处理，使得优化处理后的基本形态学操作执行：对待处理图像序列前后各增加对应第一像素数量的像素以得到重构图像序列；对重构图像序列执行该基本形态学操作得到运算结果序列，将该运算结果序列前后各删除对应第二像素数量的像素，以得到输出图像序列。本方案，能够有效避免像素损失，提高光电跟踪系统的性能。
本发明授权光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光电跟踪系统形态学滤波图像损失优化方法，其特征在于，包括： 获取由所述光电跟踪系统采用的形态学滤波算法中，具有排列顺序的多个基本形态学操作所形成的基本形态学操作序列；基本形态学操作包括腐蚀和膨胀； 基于所述基本形态学操作序列中每一个基本形态学操作对应的结构元素数量，确定每一个基本形态学操作对应所需增加的第一像素数量和对应所需删减的第二像素数量； 针对每一个基本形态学操作均进行优化处理，使得优化处理后的基本形态学操作执行：对待处理图像序列前后各增加对应第一像素数量的像素以得到重构图像序列；对重构图像序列执行该基本形态学操作得到运算结果序列，将该运算结果序列前后各删除对应第二像素数量的像素，以得到输出图像序列； 所述光电跟踪系统利用由优化处理后的基本形态学操作形成的操作序列对图像进行形态学滤波处理。
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