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龙图腾网获悉上海交通大学申请的专利一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117066531B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311182469.7，技术领域涉及：B22F10/50；该发明授权一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法是由王林;华学明;沈忱;张跃龙;李芳;周雯露设计研发完成，并于2023-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法，涉及增材制造领域，本方法包括以下步骤：步骤1、采用电弧增材制造技术沉积Ti48Al合金获得一层Ti48Al合金沉积层；步骤2、对所述沉积层进行原位热处理，即在不添加沉积材料的情况下，对所述沉积层进行重扫处理；步骤3、重扫处理后，继续重复步骤1和2，沉积Ti48Al合金，得到具有均匀的全片层晶团组织的Ti48Al合金。本发明不仅能够消除增材制造TiAl合金组织的不均匀性和各向异性，而且还能够获得具有细小全片层晶团组织，提高材料力学性能。

本发明授权一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法在权利要求书中公布了：1.一种消除增材制造TiAl合金组织性能各向异性的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 步骤1、采用电弧增材制造技术沉积Ti48Al合金获得一层Ti48Al合金沉积层，其具体工艺参数如下：沉积电流90~115A、基板温度400~620℃、扫描速度1~2mms，气氛为氩气；所述步骤1中所述Ti48Al合金沉积层的组织为沿沉积方向呈现由树枝晶组织区和全片层晶团组织区交替分布的不均匀的层带状特征，所述步骤1中的所述沉积层中所述全片层晶团组织的片层间距为0.45~0.7μm，所述步骤1中的所述沉积层中所述全片层晶团组织的尺寸为200~350μm； 步骤2、对所述沉积层进行原位热处理，即在不添加沉积材料的情况下，对所述沉积层进行重扫处理；所述原位热处理具体为：停止送丝，以1.5~3mms的重扫速度对所述步骤1中得到的Ti48Al合金沉积层进行重扫处理，所述重扫处理的扫描方向与所述步骤1中的沉积过程的扫描方向相同； 步骤3、重扫处理后，继续重复步骤1和2，沉积Ti48Al合金，得到具有均匀的全片层晶团组织的Ti48Al合金，层状分布特征消失，组织的各向异性消失；得到的Ti48Al合金中全片层晶团组织的片层间距为0.12~0.54μm，全片层晶团组织的尺寸为148~183μm；得到的Ti48Al合金组织的取向分布和室温拉伸性能无各向异性。

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