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龙图腾网获悉中国科学院信息工程研究所申请的专利基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116863476B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310733846.5，技术领域涉及：G06V30/148；该发明授权基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法及系统是由周宇;杨欣烨;杨东宝;王伟平设计研发完成，并于2023-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开一种基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法及系统，涉及图像文字识别领域，通过印章定位模块生成能够代表印章位置的掩模，避免对非印章区域文字的过度擦除，并保证能够将注意力集中在印章区域；通过提取背景文字的纹理信息，以及通过跳过连接将纹理信息和掩膜一起传递给印章擦除模块，让印章擦除模块在去除印章的同时保留背景文字，确保对印章准确地擦除。本发明能够自动将文档图像中遮挡文字信息并妨碍图像文字识别的印章进行擦除，保留被印章遮挡的背景文字，从而防止或减少印章遮挡对文字识别器的负面影响，进而有助于更准确识别文档图像中的文字。

本发明授权基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于掩模引导的去除印章噪声的图像生成方法，其特征在于，包括以下步骤： 对U-Net的网络结构进行修改，在编码器和解码器之间增加残差块作为桥来连接编码器和解码器，得到印章定位模块；印章定位模块的编码器包含四个下采样层，每个下采样层均由一个残差块构成；解码器包含四个上采样层，每个上采样层均由一个反卷积和一个残差块构成；作为桥的残差块为三个残差块； 对U-Net的网络结构进行修改，在编码器和解码器之间增加全局上下文注意力模块，得到印章擦除模块；印章擦除模块包含四个下采样层，每个下采样层均由一个卷积构成；解码器包含四个上采样层，每个上采样层均由一个反卷积和一个卷积构成； 将印章图片输入到印章定位模块中，通过其编码器提取图像抽象特征，通过解码器根据该图像抽象特征得到印章掩膜，通过桥提取印章图片的背景纹理信息特征； 将印章图片和印章掩膜输入到印章擦除模块，通过其编码器提取图像特征；并将该图像特征与所述背景纹理信息特征进行拼接并输入到全局上下文注意力模块中，再经过其解码器处理得到去印章图片； 根据印章掩膜将印章图片中的印章区域替换为去印章图片中的印章区域，得到去除印章的组合图像，具体包括：将印章掩模替换为膨胀后印章掩膜，并与去印章图片进行点积，得到去印章图片中印章区域的图像信息；将印章图片与膨胀后印章掩膜的反转掩模进行点积，得到印章图片的非印章区域的图像信息；将去印章图片中印章区域的图像信息和印章图片的非印章区域的图像信息进行两者相加，得到组合图像； 根据真实无印章图像和对应的印章图像构建训练数据集，根据该训练数据集对印章定位模块和印章擦除模块同时进行训练，优化损失； 利用训练好的印章定位模块和印章擦除模块对待处理的印章图片进行处理，生成去除印章噪声的图像。

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