秀博瑞殷株式公社李正浩获国家专利权
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龙图腾网获悉秀博瑞殷株式公社申请的专利氧化铈粒子、包含其的化学机械研磨用浆料组合物以及半导体器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116710531B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180053272.6，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权氧化铈粒子、包含其的化学机械研磨用浆料组合物以及半导体器件的制造方法是由李正浩;金锡主设计研发完成，并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本氧化铈粒子、包含其的化学机械研磨用浆料组合物以及半导体器件的制造方法在说明书摘要公布了：提供一种化学机械研磨用氧化铈粒子、包含其的化学机械研磨用浆料组合物。所述氧化铈粒子的表面包含Ce3+3+和Ce4+4+，当使用本发明的实施例的氧化铈粒子时，通过增加氧化铈表面的Ce3+3+的比例，尽管粒径微小，但是能够在低含量范围内表现出较高的氧化膜去除速度和氧化膜研磨选择比。
本发明授权氧化铈粒子、包含其的化学机械研磨用浆料组合物以及半导体器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种化学机械研磨用氧化铈粒子，其特征在于， 所述氧化铈粒子的电子能量损失谱包括876.5～886.5eV的第一峰和894.5～904.5eV的第二峰， 所述第一峰的最大强度大于所述第二峰的最大强度， 进一步包括886.5～889.5eV的第三峰和904.5～908.5eV的第四峰，所述第三峰区间的面积之和P1与所述第四峰区间的面积之和P2相对于所述电子能量损失谱的峰的总面积之和Pt的比例P1+P2Pt为0.1以下， 在所述氧化铈粒子的含量被调节为1.0重量％的水分散液中，对于波长为500nm的光的透光率为50％以上， 将利用动态光散射DLS粒度分析仪测得的所述氧化铈粒子的粒径设为a，并且将利用透射电子显微镜TEM测得的所述氧化铈粒子的粒径设为b，此时，所述氧化铈粒子能够满足如下式2， [式2] a≤2.2b。
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