细美事有限公司金泰熙获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利掩模处理装置及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116382027B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211728938.6，技术领域涉及：G03F1/52；该发明授权掩模处理装置及基板处理装置是由金泰熙;郑智训;金泰信;郑映大;全瑛恩设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模处理装置及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明构思提供一种掩模处理装置及基板处理装置。该掩模处理装置可以包括：支承单元，其支承该掩模；及光辐照单元，该光辐照单元通过光辐照该掩模以调整形成于该掩模中图案的关键尺度，其中该光辐照单元包括产生该光的光源及光调制组件，该光调制组件调制由该光源产生的该光且形成辐照图案。
本发明授权掩模处理装置及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种用于处理掩模的掩模处理装置，所述掩模处理装置包含： 支承单元，所述支承单元配置为支承所述掩模；以及 光辐照单元，所述光辐照单元配置为通过光辐照所述掩模以调整形成于所述掩模中图案的关键尺度， 其中，所述光辐照单元包括： 光源，所述光源配置为产生所述光；以及 光调制组件，所述光调制组件配置为调制由所述光源产生的所述光且形成辐照图案； 其中，所述光调制组件包括： 微型镜面，所述微型镜面以旋转方式设置；以及 组件基板，所述微型镜面布置在所述组件基板中；并且 所述光辐照单元还包括光收集器，所述光收集器配置为移除反射方向由所述微型镜面改变且因此不传送至所述掩模的光， 所述光收集器具有中空圆柱形状且具有孔，由所述光调制组件调制的所述光通过所述孔，并且 所述光收集器的内表面的至少一部分包括沟槽，所述沟槽配置为移除所述反射方向由所述微型镜面改变且因此不传送至所述掩模的光。
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