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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利处理基片的系统及其维护方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116230582B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211500012.1，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权处理基片的系统及其维护方法是由山岸孝幸;阿部朋弘设计研发完成，并于2022-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本处理基片的系统及其维护方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够抑制系统的占有面积的增加、并且能够进行真空输送腔室的维护的处理基片的系统及其维护方法。本发明的处理基片的系统包括：大气输送室；真空输送腔室；设置有真空处理腔室的处理模块；和负载锁定腔室，真空输送腔室和负载锁定腔室配置在操作者能够进入的高度位置，真空输送腔室的下方侧的空间，除了与所述负载锁定腔室连接的面以外，被多个所述处理模块从外侧封闭。负载锁定腔室的下方侧的空间成为所述操作者能够从与所述大气输送室连接的面以外的方向进入并到达所述真空输送腔室的下方侧的空间的维护通路。

本发明授权处理基片的系统及其维护方法在权利要求书中公布了：1.一种能够使用多个真空处理腔室对基片进行处理的系统，其特征在于，包括： 大气输送室，其用于在大气气氛下进行所述基片的输送； 真空输送腔室，其用于在真空气氛下进行所述基片的输送； 多个处理模块，其通过将所述真空处理腔室和与该真空处理腔室一并设置的并设设备在上下方向上配置而构成；和 设置在所述大气输送室与所述真空输送腔室之间的负载锁定腔室，其能够在收纳有所述基片的状态下，将内部在大气气氛与真空气氛之间切换， 所述真空输送腔室和所述负载锁定腔室配置在操作者能够进入其下方侧的高度位置， 所述负载锁定腔室和多个所述真空处理腔室分别与所述真空输送腔室的侧面连接，所述真空输送腔室的下方侧的空间，除了与所述负载锁定腔室连接的面以外，被多个所述处理模块从外侧封闭， 所述负载锁定腔室的下方侧的空间成为所述操作者能够从与所述大气输送室连接的面以外的方向进入并到达所述真空输送腔室的下方侧的空间的维护通路， 所述真空输送腔室具有基片输送机器人，该基片输送机器人包括：设置在所述真空输送腔室内的基片输送用的多关节臂；和与所述多关节臂连接的驱动机构，其以向所述真空输送腔室的下方侧的空间伸出的方式设置， 所述维护通路具有能够使从所述真空输送腔室被卸下的所述驱动机构通过的宽度尺寸和高度尺寸， 所述驱动机构在被收纳在输送用的输送容器中的状态下被输送，所述维护通路的宽度和高度为能够使收纳有所述驱动机构的所述输送容器通过的尺寸， 在从所述维护通路到所述驱动机构的安装位置的、所述真空输送腔室和所述负载锁定腔室的下方侧的空间的地面上，设置有用于使所述输送容器滑动移动的滑板。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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