富士胶片株式会社高桥勇太获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利光学各向异性层的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116113858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180057967.1，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权光学各向异性层的制造方法是由高桥勇太;吉田慎平;小玉启祐设计研发完成，并于2021-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学各向异性层的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种液晶化合物的取向状态被固定且沿厚度方向具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域的光学各向异性层的简便的制造方法。本发明的光学各向异性层的制造方法包括：工序1，该工序中形成组合物层，所述组合物层包含具有聚合性基团的液晶化合物；工序2，该工序中对组合物层实施加热处理以使组合物层中的所述液晶化合物取向；工序3，该工序是在工序2之后，在氧浓度为1体积％以上的条件下，对组合物层以300mJcm22以下进行50秒钟以下的光照射；工序4，该工序是在工序3之后，在比光照射时更高的温度下对组合物层实施加热处理；及工序5，该工序是在工序4之后，对组合物层实施固化处理而形成沿厚度方向具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域的光学各向异性层。
本发明授权光学各向异性层的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学各向异性层的制造方法，其包括： 工序1，该工序中形成组合物层，所述组合物层包含手性试剂，所述手性试剂包含通过光照射而螺旋扭转力发生变化的感光性手性试剂，并且所述组合物层包含具有聚合性基团的液晶化合物； 工序2，该工序中对所述组合物层实施加热处理以使所述组合物层中的所述液晶化合物取向； 工序3，该工序是在所述工序2之后，在氧浓度为1体积%以上的条件下，对所述组合物层以300mJcm2以下进行50秒钟以下的光照射； 工序4，该工序是在所述工序3之后，在比所述光照射时更高的温度下对所述组合物层实施加热处理；及 工序5，该工序是在所述工序4之后，对所述组合物层实施固化处理而形成沿厚度方向具有多个所述液晶化合物的取向状态不同的区域的光学各向异性层。
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