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龙图腾网获悉河南科技大学申请的专利一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116027626B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211402139.X，技术领域涉及：G03F1/26；该发明授权一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法是由台玉萍;秦雪云;李新忠设计研发完成，并于2022-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法在说明书摘要公布了：一种Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法，步骤如下：获取Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列的电场表达式，结合Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到所述Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列掩模版的复透过率函数，基于该复透过率函数所描述的掩模版即为所述的Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列掩模版。本发明利用计算全息原理，通过计算机编码得到Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列的振幅调制相位掩模版，可产生具有可控边界，同时边界内的结构、排布模式可控的Gibbs‑Wulff光学涡旋阵列。因而在微粒操纵和光学微加工领域具有重要的应用价值。

本发明授权一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法在权利要求书中公布了：1.一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法，其特征在于：步骤如下： S1、获取Gibbs-Wulff光学涡旋阵列的电场表达式： 其中，x,y是空间光调制器SLM平面的笛卡尔坐标系，ρ,φ是SLM平面的极坐标系，N为Gibbs-Wulff光学涡旋阵列中涡旋的个数，k是波数，l是涡旋的拓扑荷值，n和α分别为锥透镜的折射率和锥角，S为Gibbs-Wulff光学涡旋阵列中每个涡旋的位置矩阵； S2、结合Gibbs-Wulff光学涡旋阵列的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到所述Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的复透过率函数，其复透过率函数具体表达式为： 其中，||表示对复振幅求模，H0x,y=Hx,y·T，T为宏像素的相位调制函数，angle为求角向函数；S3、基于该复透过率函数所描述的掩模版即为所述的Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版；所述闪耀光栅的相位表达式为：P0=2πxd，其中d为闪耀光栅的周期。

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