京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司周炟获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利阵列基板和显示设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115968590B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180002048.4，技术领域涉及：H10K59/80；该发明授权阵列基板和显示设备是由周炟;王建波;张陶然;黄鹂;周洋设计研发完成，并于2021-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板和显示设备在说明书摘要公布了：一种阵列基板，包括：平坦化层；阳极材料层，其位于所述平坦化层上且位于所述阵列基板的外围区域中；以及多个气体释放通孔，所述多个气体释放通孔延伸穿过所述阳极材料层，其被配置为在制造过程期间释放所述平坦化层中的气体。第一区域中的第一相应气体释放通孔的开口尺寸小于第二区域中的第二相应气体释放通孔的开口尺寸。
本发明授权阵列基板和显示设备在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其包括显示区域和外围区域；所述外围区域包括位于所述显示区域第一侧的第一侧区、位于所述显示区域第二侧的第二侧区、位于所述显示区域第三侧的第三侧区、位于所述显示区域第四侧的第四侧区；其中，所述第一侧和所述第四侧彼此相对，所述第二侧和所述第三侧彼此相对；所述外围区域还包括连接所述第三侧区和所述第四侧区的第一角区、连接所述第二侧区和所述第四侧区的第二角区、连接所述第一侧区和所述第三侧区的第三角区、以及连接所述第一侧区和所述第二侧区的第四角区； 所述外围区域包括第一区域和第二区域；所述第一区域在所述第一角区中或者在所述第二角区中；所述第二区域在所述第一角区、所述第二角区、所述第三角区、以及所述第四角区之外； 所述阵列基板包括： 平坦化层； 阳极材料层，其位于所述平坦化层上且位于所述阵列基板的外围区域中；以及， 多个气体释放通孔，所述多个气体释放通孔延伸穿过所述阳极材料层，其被配置为在制造过程期间释放所述平坦化层中的气体； 其中，第一区域中的第一相应气体释放通孔的开口尺寸小于第二区域中的第二相应气体释放通孔的开口尺寸。
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