株式会社岛津制作所森久祐司获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社岛津制作所申请的专利荧光X射线分析装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115803612B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080102474.0，技术领域涉及：G01N23/223；该发明授权荧光X射线分析装置是由森久祐司设计研发完成，并于2020-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本荧光X射线分析装置在说明书摘要公布了：提供一种能够减少构成测量气氛的气体的消耗量的荧光X射线分析装置。荧光X射线分析装置1具备：试样室11，其载置试样41；测量室12，其与所述试样室11的试样41相邻地配置；X射线管20，其向所述试样11照射X射线23；以及检测器30，其检测由所述试样41反射的X射线23，在所述检测器30设有：通路36，其位于所述测量室12内并且供反射的X射线23通过；以及孔33，其连接所述通路36与所述检测器30外部。
本发明授权荧光X射线分析装置在权利要求书中公布了：1.一种荧光X射线分析装置，其中，该荧光X射线分析装置具备： 试样室，其载置试样； 测量室，其与所述试样室的试样相邻地配置； X射线管，其向所述试样照射X射线；以及 检测器，其检测由所述试样反射的X射线， 在所述检测器设有准直器，该准直器具有：通路，其位于所述测量室内并且供反射的X射线通过；以及孔，其连接所述通路与所述检测器外部， 所述准直器设置于所述检测器的壳体的顶端部， 在所述壳体的顶端设有窗构件， 所述通路的顶端位于所述通路的所述试样室侧，所述通路的后端位于所述通路的所述窗构件侧， 所述孔连接所述通路的后端与所述检测器外部， 所述通路内的气体经由所述孔向所述检测器外部排出。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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