深圳市德明利光电有限公司潘德烈获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市德明利光电有限公司申请的专利主动层结构及面射型共振腔体雷射获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115764546B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211188480.X，技术领域涉及：H01S5/183；该发明授权主动层结构及面射型共振腔体雷射是由潘德烈;李承远;李佳勋设计研发完成，并于2022-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本主动层结构及面射型共振腔体雷射在说明书摘要公布了：本申请提供了一种主动层结构及面射型共振腔体雷射，主动层结构包括：从下至上依次设置的N型掺杂层、第一局限层、复合量子井层、第二局限层和P型掺杂层；其中，复合量子井层包括交替设置的能障层和井层；能障层的数量等于井层的数量加一；主动层结构中的各层分别对应的能带值整体上呈非对称形态分布。本申请通过设置能带值整体上呈非对称形态分布的主动层多层结构，可以有效阻止电子越过主动区内的能障层抵达P型掺杂侧的局限层，防止组件高温或是高电流操作时造成寿命异常，提高器件寿命；并促使大部分载子留在井层，增加载子复合机率，进而提升内部量子效率。
本发明授权主动层结构及面射型共振腔体雷射在权利要求书中公布了：1.一种主动层结构，其特征在于，所述主动层结构包括：从下至上依次设置的N型掺杂层、第一局限层、复合量子井层、第二局限层和P型掺杂层；其中，所述复合量子井层包括交替设置的能障层和井层；所述能障层的数量等于所述井层的数量加一；所述主动层结构中的各层分别对应的能带值整体上呈非对称形态分布；所述复合量子井层中的井层数量为奇数； 所述复合量子井层包括：从下到上依次设置的第一能障层、第一井层、第二能障层、第二井层、第三能障层、第三井层和第四能障层；其中，所述第二能障层的能带值高于其它能障层的能带值；能障层的能带值均高于井层的能带值。
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