力晶积成电子制造股份有限公司张锦维获国家专利权
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龙图腾网获悉力晶积成电子制造股份有限公司申请的专利远红外线感测元件以及包含其的传感器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115727955B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111079152.1，技术领域涉及：G01J5/06；该发明授权远红外线感测元件以及包含其的传感器是由张锦维;苏韦企;陈文吉设计研发完成，并于2021-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本远红外线感测元件以及包含其的传感器在说明书摘要公布了：本发明公开一种远红外线感测元件以及包含其的传感器，其中该远红外线感测元件包括基板、设置于基板上的光吸收层、设置于光吸收层中的感测层、氧化铟锡ITO层以及导电插塞。光吸收层还具有数个接触窗开口，感测层具有延伸部延伸至所述接触窗开口。氧化铟锡层设置于所述光吸收层与所述基板之间，其中所述氧化铟锡层具有第一部分与数个第二部分。第一部分位于感测层下方作为反射层，第二部分与其上方的光吸收层作为数个支臂连接至感测层的延伸部。导电插塞则分别连接支臂与基板中的内连线，并于反射层与基板之间形成绝热空间。
本发明授权远红外线感测元件以及包含其的传感器在权利要求书中公布了：1.一种远红外线感测元件，包括： 基板； 光吸收层，设置于所述基板上，其中所述光吸收层具有数个接触窗开口； 感测层，设置于所述光吸收层中，且所述感测层具有延伸部延伸至所述数个接触窗开口； 氧化铟锡ITO层，设置于所述光吸收层与所述基板之间，其中所述ITO层具有位于同一层的第一部分与数个第二部分，所述第一部分位于所述感测层下方作为反射层，所述数个第二部分与其上方的所述光吸收层作为数个支臂连接至所述感测层的所述延伸部；以及 数个导电插塞，分别连接所述数个支臂与所述基板中的内连线，并于所述反射层与所述基板之间形成绝热空间。
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