华邦电子股份有限公司萧郁苹获国家专利权
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龙图腾网获悉华邦电子股份有限公司申请的专利电容器及其形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115697035B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110849732.8，技术领域涉及：H10N97/00；该发明授权电容器及其形成方法是由萧郁苹;朴哲秀;郑俊鸿;庄惟捷;周炜超;阮彦旻设计研发完成，并于2021-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本电容器及其形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种电容器及其形成方法，该电容器包括位于基板上多个杯状下电极、顺应性覆盖杯状下电极内侧表面与外侧表面的电容介电层、覆盖电容介电层表面的上电极、以及位于杯状下电极外侧表面之间以连接杯状下电极的支撑层。上述电容器还包括退火氧化层，其夹设于杯状下电极的内侧表面与电容介电层之间，并夹设于杯状下电极的部分外侧表面与电容介电层之间。上述支撑层位于杯状下电极外侧表面之间以连接杯状下电极。上述支撑层包括上支撑层、中支撑层、以及下支撑层，其分别连接杯状下电极外侧表面的上部、中部以及下部。本发明还提供一种形成上述电容器的方法。
本发明授权电容器及其形成方法在权利要求书中公布了：1.一种电容器，其特征在于，包括： 多个杯状下电极，位于一基板上； 一电容介电层，顺应性覆盖所述杯状下电极的内侧表面与外侧表面； 一退火氧化层，夹设于所述杯状下电极的内侧表面与所述电容介电层之间，幷夹设于所述杯状下电极的部分外侧表面与所述电容介电层之间； 一上电极，覆盖所述电容介电层的表面；以及 一支撑层，位于所述杯状下电极的外侧表面之间，以连接所述杯状下电极，其中所述支撑层包括： 一上支撑层，连接所述杯状下电极的外侧表面的上部，其中所述退火氧化层不接触所述上支撑层； 一中支撑层，连接所述杯状下电极的外侧表面的中部；以及 一下支撑层，连接所述杯状下电极的外侧表面的下部。
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