上海微电子装备(集团)股份有限公司彭俊获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利调焦调平装置及光刻机获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115542672B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110736679.0,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权调焦调平装置及光刻机是由彭俊;李道萍;孙建超;王晓庆;陈小娟;庄亚政;徐荣伟设计研发完成,并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本调焦调平装置及光刻机在说明书摘要公布了:本发明提供了一种调焦调平装置及光刻机,扫描反射组件包括驱动单元及驱动单元,反射镜单元具有一个或至少两个周向分布的反射面,驱动单元通过驱动反射镜单元旋转以将投影光斑扫描成像在基底的表面,无需克服反射镜单元自身质量产生的惯性,通过提高旋转速度即可提高调制频率,进而提高调焦调平装置的探测信噪比,并降低测量误差,且当反射镜单元具有至少两个反射面时,反射镜单元旋转一圈可以提供多次光强调制,从而进一步提高调制频率。
本发明授权调焦调平装置及光刻机在权利要求书中公布了:1.一种调焦调平装置,其特征在于,包括沿光路依次设置的: 照明组件,用于发出检测光束; 投影狭缝组件,用于透射所述检测光束并形成多个投影光斑; 扫描反射组件,包括驱动单元及反射镜单元,所述反射镜单元具有一个或至少两个周向分布的反射面,所述驱动单元驱动所述反射镜单元沿预定方向旋转并将所述投影光斑投影成像在基底的表面,所述投影光斑被所述基底的表面反射后形成探测光斑; 探测狭缝组件,用于透射所述探测光斑并形成标记光斑;以及, 探测器组件,用于探测所述标记光斑的能量。
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