应用材料公司凯尔·M·汉森获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于曝光后烘烤的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115390376B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210877638.8，技术领域涉及：G03F7/38；该发明授权用于曝光后烘烤的设备是由凯尔·M·汉森;格雷戈里·J·威尔逊;维亚斯拉夫·巴巴扬设计研发完成，并于2017-05-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于曝光后烘烤的设备在说明书摘要公布了：本文描述的实施方式涉及用于进行浸没场引导的曝光后烘烤工艺的方法和设备。本文描述的设备的实施方式包括界定处理容积的腔室主体。电极可被设置为与处理容积相邻，并且经由多个流体导管而将处理流体提供到处理容积以促进浸没场引导的曝光后烘烤工艺。亦提供了用于冲洗基板、使基板显影和使基板干燥的后处理腔室。
本发明授权用于曝光后烘烤的设备在权利要求书中公布了：1.一种基板处理设备，包含： 腔室主体，界定处理容积，其中所述处理容积的长轴线垂直地定向，且所述处理容积的短轴线水平地定向； 可移动的门，耦接到所述腔室主体，所述门能围绕一轴线旋转； 第一电极，耦接到所述门和第一热源，并且密封件耦接到所述第一电极，其中当基板的前侧与所述处理容积相邻设置时，所述密封件被配置为接触所述基板的背侧； 第二电极，耦接到所述腔室主体和第二热源，所述第二电极至少部分地界定所述处理容积； 背板，设置在所述第一电极与所述门之间； 多个第一流体口，形成在与所述处理容积相邻的所述腔室主体的侧壁中；及 多个第二流体口，形成在与所述处理容积相邻的所述腔室主体的所述侧壁中并与所述多个第一流体口相对。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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