联华电子股份有限公司杨闵丞获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115373227B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110557042.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法是由杨闵丞;邱崇益设计研发完成，并于2021-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种双重图形曝光的光掩模修正方法、光掩模修正装置与布局机器学习模型的训练方法。双重图形曝光的光掩模修正方法包括以下步骤。获得一光掩模布局目标图。分解光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图。这些光掩模布局子图于一连结区域重叠。一布局机器学习模型依据光掩模布局目标图分析出连结区域的尺寸。布局机器学习模型依据一蚀刻后三维信息建立。对这些光掩模布局子图执行一光学邻近校正程序。
本发明授权光掩模修正方法和装置以及布局机器学习模型的训练方法在权利要求书中公布了：1.一种双重图形曝光的光掩模修正方法，包括： 获得光掩模布局目标图； 分解该光掩模布局目标图为两个光掩模布局子图，该些光掩模布局子图于连结区域重叠，其中布局机器学习模型依据该光掩模布局目标图分析出该连结区域的尺寸，该布局机器学习模型依据蚀刻后三维信息建立，该蚀刻后三维信息包含俯视二维信息及剖面信息；以及 对该些光掩模布局子图执行光学邻近校正程序。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人联华电子股份有限公司，其通讯地址为：中国台湾新竹市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励