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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利光学薄膜材料光学常数反演优化方法及装置、半透明光学薄膜材料光学常数检测方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115329625B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210859879.X，技术领域涉及：G06F30/23；该发明授权光学薄膜材料光学常数反演优化方法及装置、半透明光学薄膜材料光学常数检测方法及装置是由裘俊;岳童童;王纪昌;赵军明;刘林华设计研发完成，并于2022-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学薄膜材料光学常数反演优化方法及装置、半透明光学薄膜材料光学常数检测方法及装置在说明书摘要公布了：光学薄膜材料光学常数反演优化方法及装置、半透明光学薄膜材料光学常数检测方法及装置，涉及光学性质领域。针对现有技术中存在的，致采用椭偏测量无法得到半透明光学薄膜的光学常数的问题，本发明提供的技术方案为：光学薄膜材料光学常数检测方法，包括：步骤1：采集伪光学常数；步骤2：采集搜索范围内参数的初值，作为迭代参数；步骤3：采集迭代参数对应的入射偏振光波长和角度；步骤4：根据迭代参数和的波长和角度获得椭偏参数；步骤5：根据椭偏参数计算当前迭代参数的适应度；步骤6：判断适应度是否满足预设条件，满足则输出当前迭代参数作为结果，不满足则返回并依次执行步骤2至步骤6。适合应用于探索半透明光学薄膜的光学常数。

本发明授权光学薄膜材料光学常数反演优化方法及装置、半透明光学薄膜材料光学常数检测方法及装置在权利要求书中公布了：1.光学薄膜材料光学常数检测方法，基于半透明光学薄膜材料，其特征在于，所述半透明光学薄膜材料镀在高反射率的金属基底上，基底背部磨砂处理，所述方法包括： 步骤1：采集伪光学常数，作为搜索范围； 所述伪光学常数具体为：经过所述半透明光学薄膜材料反射的偏振光； 步骤2：采集所述搜索范围内参数的初值，作为迭代参数； 步骤3：采集所述迭代参数对应的入射偏振光波长和角度； 步骤4：根据所述迭代参数和所述的波长和角度获得椭偏参数； 其中，利用时域有限差分法正向计算金属基底表面各个散射方向的偏振电场分量，并提取镜反射方向的电场分量，根据Fresnel公式通过镜反射系数得到椭偏参数： ； 式中，和表示p和s偏振方向的镜反射光的电场，和分别表示s和p偏振方向的镜反射系数，和表示p和s偏振方向的入射光的电场，和是椭偏直接测量出来的参数，表示指数运算； 结合智能反演算法，构建针对半透明光学薄膜材料的光学常数椭偏测量中的智能反演模型； 步骤5：构造最小二乘形式的目标函数，根据所述椭偏参数计算当前迭代参数的适应度； 步骤6：判断所述适应度是否满足预设条件，若满足，则输出当前迭代参数作为结果，若不满足，则返回并依次执行步骤2至步骤6。

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