清华大学袁伟获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利一种光学组件的加工方法及光学组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268213B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210930318.4，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种光学组件的加工方法及光学组件是由袁伟;朱煜;张鸣;王磊杰设计研发完成，并于2022-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学组件的加工方法及光学组件在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光学组件的加工方法及光学组件，解决了透明基底在集成电路生产过程中，容易造成干扰或者设备报错的问题。所述光学组件的加工方法包括：在第一基底上依次形成多个功能层；在所述功能层的表面键合第二基底；去除部分所述功能层。
本发明授权一种光学组件的加工方法及光学组件在权利要求书中公布了：1.一种平面光栅的加工方法，其特征在于，包括： 在第一基底上依次形成多个功能层，其中每个所述功能层所实现的功能不同； 在远离所述第一基底的所述功能层的表面键合第二基底； 去除所述第一基底和与所述第一基底相连接的部分所述功能层； 所述功能层包括：缓冲层、第一刻蚀阻挡层、光栅图形层、填充层和第二刻蚀阻挡层；所述平面光栅的加工方法包括： 在第一基底上依次形成缓冲层、第一刻蚀阻挡层、光栅图形层、填充层和第二刻蚀阻挡层； 在所述第二刻蚀阻挡层远离所述第一基底的一侧键合第二基底； 去除所述第一基底、所述缓冲层、所述第一刻蚀阻挡层和所述填充层，以使所述光栅图形层和所述第二刻蚀阻挡层留在所述第二基底上，其中，所述光栅图形层包括金属图形，所述金属图形为周期性重复的金属凸块或线条。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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