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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利基板处理设备和用于基板处理设备的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695196B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111651003.8，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理设备和用于基板处理设备的方法是由崔炳斗;崔晋镐设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理设备和用于基板处理设备的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理设备和用于基板处理设备的方法。基板处理设备包括：处理容器，其具有用于处理基板的处理空间；待用端口，其定位于处理容器的一侧处以允许排出处理液体的喷嘴待用；及液体供应单元，其在处理容器与待用端口之间移动且具有喷嘴。所述待用端口包括：喷嘴接收构件，其包括具有接收空间的喷嘴接收单元，接收空间形成于喷嘴接收单元内部以接收喷嘴及清洁液体；及排出部分，其具有设置于喷嘴清洁单元的一侧处以将清洁液体排出至喷嘴的排出端口。所述排出端口经设置以在自上方观察时与喷嘴的至少一部分重叠。

本发明授权基板处理设备和用于基板处理设备的方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理设备，所述基板处理设备包含： 处理容器，所述处理容器具有用以处理基板的处理空间； 待用端口，所述待用端口定位于所述处理容器的一侧处，以允许排出处理液体的喷嘴待用；及 液体供应单元，所述液体供应单元在所述处理容器与所述待用端口之间移动且具有所述喷嘴， 其中所述待用端口包括： 喷嘴接收构件，所述喷嘴接收构件包括具有接收空间的喷嘴清洁单元以及用于排出清洁液体的排出单元，所述接收空间形成于所述喷嘴清洁单元内部以接收所述喷嘴、及清洁液体；及 排出部分，所述排出部分具有设置于所述喷嘴清洁单元的一侧处的排出端口，以将清洁液体排出至所述喷嘴，且 其中所述排出端口经设置以在自上方观察时与所述喷嘴的至少一部分重叠； 其中所述喷嘴接收构件包括防移动沟槽结构，所述防移动沟槽结构设置于所述喷嘴接收构件的底表面中，且其中所述防移动沟槽结构沿所述喷嘴清洁单元的圆周延伸以防止当排泄清洁液体时清洁液体左右移动所述防移动沟槽结构通过从所述喷嘴接收构件的底表面向上凹入而设置于所述喷嘴接收构件中，且其中所述防移动沟槽结构沿所述喷嘴清洁单元的接收空间的圆周延伸以防止当排泄清洁液体时清洁液体左右移动 其中，所述喷嘴清洁单元包括： 上部本体部分，所述上部本体部分具有在其内部表面上形成的排出端口，以将清洁液体排出至所述喷嘴； 第一倾斜部分，所述第一倾斜部分自所述上部本体部分的下端向下延伸并具有向下逐渐减小的宽度； 排出端接收部分，所述排出端接收部分自所述第一倾斜部分的下端向下延伸、在垂直方向上具有均一宽度并且用于定位所述喷嘴的排出端；以及 第二倾斜部分，所述第二倾斜部分自所述排出端接收部分的下端向下延伸并且具有向下逐渐变窄的宽度； 其中，所述排出端口经设置以在自上方观察时与所述喷嘴的至少一部分重叠； 其中，所述排出单元定位于所述喷嘴清洁单元的下方，并且包括： 第一端口，所述第一端口自所述第二倾斜部分的下端向下延伸；及 第二端口，所述第二端口自所述第一端口向下延伸且具有在远离所述第一端口的方向上增大的宽度，以及 下部本体部分，所述下部本体部分与将所述清洁液体排出至外部的排出管线连接； 其中，所述第一端口与所述第二端口之间的角度设置为钝角，并且所述第一端口在垂直方向上的长度设置为小于所述喷嘴的排出端的内部直径。

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